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O uso de alvo em galvanoplastia a vácuo

202119 de outubro

O material alvo tem muitas funções, e o espaço de desenvolvimento de mercado é grande, it has very good uses in many fields.Almost all new sputtering equipment use powerful magnets to move the electrons in a spiral motion to accelerate the ionization of the argon gas around the target, resulting in an increase in the collision probability between the target and the argon ions.

Aumente a taxa de pulverização catódica., revestimentos de metal usam principalmente pulverização catódica DC, enquanto os materiais cerâmicos não condutores usam pulverização CA de RF. O princípio básico é usar a descarga luminescente no vácuo para impactar o argônio (Com) íons no alvo. Na superfície, the cations in the plasma will accelerate to the surface of the negative electrode as the sputtered material. Este impacto fará com que o material alvo voe e se deposite no substrato para formar uma película fina.

De um modo geral, o uso de processo de pulverização catódica para revestimento de filme tem várias características: (1) Metal, liga ou isolante pode ser feito em material de filme.(2) Sob condições de configuração apropriadas, uma película fina da mesma composição pode ser feita a partir de alvos múltiplos e complexos.(3) Ao adicionar oxigênio ou outros gases ativos na atmosfera de descarga, uma mistura ou composto de material alvo e moléculas de gás pode ser feita.(4) A corrente de entrada alvo e o tempo de pulverização podem ser controlados, e é fácil obter espessuras de filme de alta precisão.(5) Comparado com outros processos, é mais propício para a produção de filmes uniformes de grandes áreas.(6) As partículas de pulverização catódica quase não são afetadas pela gravidade, e as posições do alvo e do substrato podem ser dispostas livremente.

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