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O princípio da pulverização catódica de magnetrão alvo

202131 de agosto

 

Princípio de pulverização catódica de magnetron: adicionar um campo magnético ortogonal e um campo elétrico entre o alvo pulverizado (cátodo) e o ânodo, e o alvo de pulverização catódica é preenchido com o gás inerte necessário (geralmente gás Ar) na câmara de alto vácuo. O ímã permanente forma um 250-350 Campo magnético de Gauss na superfície do material alvo, e forma um campo eletromagnético ortogonal com o campo elétrico de alta tensão..

Sob a ação do campo elétrico, O gás Ar se ioniza em íons positivos e elétrons. Uma certa alta tensão negativa é aplicada ao alvo. Os elétrons emitidos do alvo são afetados pelo campo magnético e a probabilidade de ionização do gás de trabalho aumenta, formando um plasma de alta densidade perto do cátodo. Sob a ação da força Lorentz, Os ar íons aceleram para a superfície do alvo e bombardeiam a superfície do alvo em alta velocidade, de modo que os átomos expelidos para fora do alvo sigam o princípio da conversão de momento e voem para longe da superfície do alvo com maior energia cinética. Deposição de substrato no filme. A pulverização catódica do magnetron é geralmente dividida em dois tipos: Pulverização catódica DC e pulverização catódica por radiofrequência. O princípio do equipamento de pulverização catódica DC é simples. Ao cuspir metal, sua taxa também é rápida..

A gama de aplicação da pulverização catódica por radiofrequência é mais extensa. Além de pulverizar materiais condutores, materiais não condutores também podem ser pulverizados. Ao mesmo tempo, também pode conduzir pulverização catódica reativa para preparar materiais compostos, como óxidos, nitretos, e carbonetos. Quando a frequência da frequência de rádio do alvo de pulverização catódica é aumentada, torna-se pulverização de plasma de micro-ondas. Atualmente, ressonância cíclotron de elétrons (ECR) O tipo de pulverização catódica por plasma de micro-ondas é comumente usado..

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