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Princípio do alvo de pulverização catódica de magnetron

202131 de agosto

 

Princípio de pulverização catódica de magnetron alvo:

Um campo magnético ortogonal e um campo elétrico são adicionados entre o alvo pulverizado (cátodo) e o ânodo, e o gás inerte necessário (geralmente gás Ar) é preenchido na câmara de alto vácuo. O ímã permanente se forma 250-350 na superfície do material alvo. O campo magnético gaussiano, e o campo elétrico de alta tensão forma um campo eletromagnético ortogonal.

Sob a ação do campo elétrico, O gás Ar se ioniza em íons positivos e elétrons. Uma certa alta tensão negativa é aplicada ao alvo. Os elétrons emitidos do alvo são afetados pelo campo magnético e a probabilidade de ionização do gás de trabalho aumenta, formando um plasma de alta densidade perto do cátodo. Sob a ação da força Lorentz, Os ar íons aceleram para a superfície do alvo e bombardeiam a superfície do alvo em alta velocidade, de modo que os átomos expelidos para fora do alvo sigam o princípio da conversão de momento e voem para longe da superfície do alvo com maior energia cinética. Deposição de substrato no filme.

A pulverização catódica do magnetron é geralmente dividida em dois tipos: pulverização catódica tributária e pulverização catódica por radiofrequência. O princípio do equipamento de pulverização catódica tributário é simples, e sua taxa também é rápida durante a pulverização catódica de metais. A faixa de aplicação da pulverização catódica por radiofrequência é mais extensa. Além de pulverizar materiais condutores, materiais não condutores também podem ser pulverizados. Ao mesmo tempo, também pode conduzir pulverização catódica reativa para preparar materiais compostos, como óxidos, nitretos, e carbonetos .. Se a frequência da radiofrequência for aumentada, torna-se pulverização de plasma de micro-ondas. Atualmente, ressonância cíclotron de elétrons (ECR) O tipo de pulverização catódica por plasma de micro-ondas é comumente usado..

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