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Como a densidade relativa e a porosidade do material alvo afetam a qualidade do revestimento ??

2021年10月10日

A densidade relativa do alvo é a razão entre a densidade real do alvo e a densidade teórica. A densidade teórica do alvo de componente único é a densidade cristalina. A densidade teórica do alvo da liga ou mistura é determinada pela densidade teórica de cada componente e sua composição na liga ou mistura. Calculado em porcentagem. A estrutura do alvo de pulverização térmica é solta e porosa, e o teor de oxigênio é alto (mesmo se for pulverização a vácuo, é difícil evitar a produção de óxidos e nitretos no alvo da liga), a superfície é cinza, falta brilho metálico, e as impurezas e umidade adsorvidas são os principais fatores. A fonte de poluição dificulta a aquisição rápida de alto vácuo, facilmente leva à descarga durante o processo de pulverização catódica, e até queima o material alvo.

Ao mesmo tempo, a alta temperatura instantânea da superfície de pulverização catódica do alvo facilmente fará com que as partículas soltas caiam, contaminar a superfície do vidro, e afetam a qualidade do revestimento. Existem regulamentos claros para liberação pontual da superfície de vidro revestida. Quanto maior a densidade relativa, quanto mais rápida a taxa de formação do filme e mais estável o processo de pulverização catódica. De acordo com a diferença no processo de preparação do material alvo, a densidade relativa do alvo de fundição por fusão deve ser garantida como acima 98%, e a meta de metalurgia do pó deve ser garantida como acima 97% para uso em produção .. Portanto, é necessário controlar estritamente a densidade do material alvo para reduzir a ocorrência de queda de escória. O material alvo de pulverização tem baixa densidade e baixo custo de preparação. Quando a densidade relativa pode garantir mais do que 90%, geralmente não afeta o uso. Atualmente, os alvos SiA1 usados ​​na China são todos alvos de pulverização..

Além de densificação, se o material alvo é anormal durante o processo de produção, como partículas grandes caindo ou diminuindo de buracos quando aquecidos, mais poros (defeitos internos) será formado, e o interior do material alvo parecerá maior (alvo de derretimento>2milímetros, alvo de pulverização> 0.5milímetros) ou buracos mais densos irão descarregar devido à concentração de cargas, que afetará o uso. Alvos com baixa densidade e poros são propensos a lascar durante o processamento subsequente, manuseio ou instalação. O material alvo com alta densidade relativa e poucos poros tem boa condutividade térmica, e o calor na superfície do material alvo de pulverização é fácil e rapidamente transferido para a superfície interna do material alvo ou a água de resfriamento no forro, e a dissipação de calor é boa, garantindo assim a estabilidade do processo de formação de filme.

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