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Descriptografar, a aplicação de material alvo em galvanoplastia a vácuo

2021年10月19日

Com o desenvolvimento dos tempos, a fim de atender aos requisitos de ser mais seguro, mais economia de energia, redução de ruído, e reduzindo as emissões de poluentes, no processo de tratamento de superfície, a galvanoplastia se tornou uma nova tendência na proteção ambiental. Ao contrário da galvanoplastia comum, a galvanoplastia a vácuo é mais ecológica. Ao mesmo tempo, a eletrogalvanização a vácuo pode produzir um efeito preto com bom brilho que não pode ser obtido pela eletrogalvanização comum..

A galvanoplastia a vácuo é basicamente um fenômeno de deposição física, em que o gás argônio é injetado sob vácuo, e o gás argônio atinge o material alvo, e as moléculas separadas do material alvo são adsorvidas pelos produtos condutores para formar uma camada de superfície uniforme e lisa. Neste processo de galvanoplastia, o material alvo é muito importante, então, quais são as aplicações do material alvo no processo de galvanoplastia a vácuo??Hoje, o editor lhe dará uma introdução detalhada.

sob circunstâncias normais, a aplicação de materiais alvo em galvanoplastia a vácuo tem as seguintes características:

(1) Metais, ligas ou isoladores podem ser feitos em materiais de película fina.

(2) Sob condições de configuração apropriadas, uma película fina da mesma composição pode ser feita a partir de alvos múltiplos e complexos.

(3) Ao adicionar oxigênio ou outros gases ativos na atmosfera de descarga, uma mistura ou composto de material alvo e moléculas de gás pode ser feita.

(4) A corrente de entrada alvo e o tempo de pulverização podem ser controlados, e é fácil obter espessura de filme de alta precisão.

(5) Comparado com outros processos, é mais propício para a produção de filmes uniformes de grandes áreas.

(6) As partículas de pulverização catódica quase não são afetadas pela gravidade, e as posições do alvo e do substrato podem ser dispostas livremente.

(7) A força de adesão entre o substrato e o filme é mais do que 10 vezes o do filme geral de deposição de vapor, e porque as partículas pulverizadas carregam alta energia, eles continuarão a se difundir na superfície de formação do filme para obter um filme duro e denso. Ao mesmo tempo, a alta energia faz com que o substrato só precise. Filme cristalizado pode ser obtido em temperatura mais baixa.

(8) Alta densidade de nucleação no estágio inicial de formação do filme, que pode produzir filme contínuo ultrafino abaixo de 10 nm.

(9) O material alvo tem uma longa vida e pode ser produzido automática e continuamente por um longo tempo.

(10) O material alvo pode ser feito em várias formas, com o design especial da máquina para melhor controle e eficiência.

O acima é o resumo do editor para todos. Algumas características da aplicação de materiais alvo em galvanoplastia a vácuo. Como um novo produto de tecnologia, o aparecimento de materiais alvo é um grande avanço na tecnologia de tratamento de superfície..

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