productnaam:Tantalum target material
Cijfer: Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.
Productnaam:GB/3629-2006
Puurheid:≥99.95%
Condition: annealed (m) or hard (Y)
Maat:
Buitenste diameter (mm) | Dikte (mm) | Oppervlakteruwheid | Vlakheid |
50~400 | 3~50 | 32Rms | ≤0,15% |
Opmerking: Over speciale producten moet worden onderhandeld tussen vraag en aanbod. |
Ingrediënt vereisten:
Merk | Elementaire inhoud (massafractie %) | |||||||||||
C | N | O | H | Fe | En | Ni | Jij | Mo | W | Nb | Ta | |
Ta1 | 0.01 | 0.005 | 0.015 | 0.0015 | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 0.002 | 0.01 | 0.01 | 0.05 | Resten |
Ta2 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.005 | 0.03 | 0.04 | 0.1 | Resten |
TaNb3 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.005 | 0.03 | 0.04 | 1.5~3.5 | Resten |
TaNb20 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.005 | 0.02 | 0.04 | 17~23 | Resten |
TaNb40 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 0.05 | 35~42 | Resten |
TaW2.5 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 2.0~3.5 | 0.5 | Resten |
TaW7.5 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 6.5~8.5 | 0.5 | Resten |
TaW10 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 9.0~11 | 0.1 | Resten |
Sollicitatie: Tantaal sputterdoel is een tantaalvel verkregen door drukverwerking, met hoge chemische zuiverheid, kleine korrelgrootte, goede herkristallisatieorganisatie en consistentie in de drie assen.
Hoofdzakelijk gebruikt in sputterdepositiecoating van optische vezels;, halfgeleiderwafel en geïntegreerde schakeling, tantaaldoel kan worden gebruikt voor kathodesputtercoating;, hoog vacuüm zuig actief materiaal, enz.
Het is een belangrijk materiaal voor dunnefilmtechnologie. Pantserdoorborende munitie: Door tantaal gemaakte pantserdoordringende munitie is een soort raket, zoals TOW2B-raket. Ta-10W en andere legeringen kunnen ook worden verwerkt tot pantserdoorborende munitie.