Selamat datang ke laman web kami
0086-18429179711 [email protected] aliyun.com

Tantalum

» Tantalum

Pengelasan bahan sasaran sputtering

CATEGORY AND TAGS:
Tantalum

 

enquiry
  • Product Description

Sasaran logam
Nikel sasaran Ni, sasaran titanium Ti, sasaran zink Zn, sasaran kromium Cr, sasaran magnesium Mg, sasaran niobium Nb, sasaran timah Sn, sasaran aluminium Al, sasaran indium Dalam, sasaran besi Fe, sasaran zirkonium ZrAl, sasaran titanium TiAl, sasaran zirkonium Zr, sasaran silikon aluminium AlSi, sasaran silikon Si, sasaran tembaga Cu, sasaran tantalum Ta, germanium sasaran Ge, sasaran perak Ag, sasaran kobalt Co, emas sasaran Au, sasaran gadolinium Gd, sasaran lanthanum La, sasaran yttrium Y, sasaran cerium Ce, sasaran keluli tahan karat, NiCr, Hafnium Hf, Mo, FeNi, W, dan lain-lain.
Sasaran seramik
Sasaran IT, sasaran magnesium oksida, sasaran oksida besi, sasaran silikon nitrida, sasaran silikon karbida, sasaran titanium nitrida, sasaran kromium oksida, sasaran zink oksida, sasaran zink sulfida, sasaran silikon dioksida, sasaran silikon oksida, sasaran serium oksida, sasaran zirkonium dioksida, sasaran niobium pentoksida, sasaran titanium dioksida, sasaran zirkonium dioksida, sasaran hafnium dioksida, sasaran titanium diboride, sasaran zirkonium diborida, sasaran tungsten trioksida, aluminium trioksida mensasarkan tantalum pentoksida, niobium pentoksida mensasarkan sasaran Magnesium fluorida, sasaran fluorida yttrium, sasaran zink selenida, sasaran aluminium nitrida, sasaran silikon nitrida, sasaran boron nitrida, sasaran titanium nitrida, sasaran silikon karbida, sasaran litium niobate, sasaran praseodymium titanate, sasaran barium titanat, sasaran lanthanum titanate, sasaran nikel oksida, sputtering target, dan lain-lain.
Sasaran aloi
FeCo, AlSi, TiSi, CrSi, ZnAl, TiZn, TiAl, TiZn, TiZr, TiSi, TiNi, NiCr, NiAl, NiV, NiFe, dan lain-lain. [1]
Suara Editor Pembangunan
Pelbagai jenis bahan filem nipis yang meresap telah digunakan secara meluas dalam litar bersepadu semikonduktor (VLSI), cakera optik, paparan panel rata dan salutan permukaan bahan kerja, dan lain-lain. Sejak tahun 1990-an, pembangunan serentak sasaran sputtering dan teknologi sputtering telah banyak memenuhi keperluan pembangunan pelbagai komponen elektronik baharu. Sebagai contoh, dalam proses pembuatan litar bersepadu semikonduktor, kerintangan yang lebih rendah bagi filem konduktor kuprum dan bukannya pendawaian filem aluminium: dalam industri paparan panel rata, pelbagai teknologi paparan (seperti LCD, PDP, OLED dan FED, dan lain-lain.) daripada pembangunan serentak, ada yang telah digunakan dalam komputer dan komputer untuk pembuatan paparan; dalam industri penyimpanan maklumat, kapasiti penyimpanan memori magnetik terus meningkat, bahan rakaman optik magnet baru Ini adalah sasaran sputtering yang diperlukan untuk kualiti keperluan yang semakin tinggi, bilangan permintaan juga semakin meningkat dari tahun ke tahun.

Diterjemahkan dengan www.DeepL.com/Translator (versi percuma)

Enquiry Form (we will get back to you ASAP)

Name:
*
E-mel:
*
Message:

Verification:
1 + 7 = ?

Mungkin anda suka juga

  • Product Categories

  • Kongsi kepada rakan

  • SYARIKAT

    Shaanxi Zhongbei Titanium Tantalum Niobium Metal Material Co., Ltd.. adalah syarikat China yang mengkhususkan diri dalam pemprosesan logam bukan ferus, melayani pelanggan global dengan produk berkualiti tinggi dan perkhidmatan purna jual yang sempurna.

  • Hubungi Kami

    Mudah alih:86-400-660-1855
    E-mel:[email protected] aliyun.com
    Web:www.chn-ti.com