ຂ່າວອຸດສາຫະກໍາ

1) ຫຼັກການ sputtering Magnetron. ໃນ​ເສົາ​ເປົ້າ​ຫມາຍ sputtered​ (cathode) ແລະ anode ລະຫວ່າງການເພີ່ມເຕີມຂອງສະຫນາມແມ່ເຫຼັກ orthogonal ແລະໄຟຟ້າ, ຢູ່ໃນຫ້ອງດູດhighຸ່ນສູງທີ່ເຕັມໄປດ້ວຍອາຍແກັສ inert ທີ່ຕ້ອງການ (ປົກກະຕິແລ້ວອາຍແກັສ Ar), ແມ່ເຫຼັກຖາວອນຢູ່ໃນພື້ນຜິວວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍທີ່ຈະປະກອບເປັນພາກສະຫນາມແມ່ເຫຼັກຂອງ 250 ~ 350 ໂກສ, ກັບພາກສະຫນາມໄຟຟ້າແຮງດັນສູງ …

ປະຈຸບັນ,ມີຜູ້ຄົນຢູ່ກັບຫົວ ໜ້າ ລົງທຸກບ່ອນ,ແລະໂທລະສັບມືຖືມີສື່ມວນຊົນຢູ່ໃນໃຈສ່ວນແບ່ງຂອງຄວາມສຸກເປັນສາທາລະນະ,ແລະໂທລະສັບມືຖືສະແດງໃຫ້ເຫັນວ່າຈະກາຍເປັນຫຼາຍຂຶ້ນແລະສູງສຸດ,ການອອກແບບ scree ເຕັມ,ການອອກແບບ smallbangs,ກ

ການພັດທະນາຂອງຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ອາລູມິນຽມ, ການນໍາໃຊ້ເປົ້າindາຍອຸດສາຫະກໍາ.,ມາດຕະຖານສໍາລັບຜະລິດຕະພັນເອເລັກໂຕຣນິກໃnew່(ລວມທັງ

ມີການພັດທະນາຕະຫຼອດເວລາ,inordertomeettherequirementsofbeingsafer,ປະຫຍັດພະລັງງານຫຼາຍ,ການຫຼຸດຜ່ອນສຽງລົບກວນ,ແລະຫຼຸດຜ່ອນການປ່ອຍມົນລະພິດ,ຜູ້ຖືກເຄາະຮ້າຍຈາກການhesັງສົບ

ປຽບທຽບກັບຮູບແບບອື່ນofຂອງຕາຂ່າຍໄຟຟ້າເປົ້າterາຍການວາງເປົ້າາຍ,ຮູບຊົງກະບອກແລະແຜນຍຸດທະສາດກຸ່ມສັນຍານໄຟຟ້າເປົ້າreາຍການຮັກສາຜົນປະໂຫຍດຂອງຫົວ ໜ້າ ໄດ້ດີການເຄືອບເຄື່ອງແບບດຽວກັນຄວາມຖືກຕ້ອງສໍາລັບການແກ້ໄຂເປັນຮູບວົງມົນ,ກ

ຜະລິດຕະພັນເອເລັກໂຕຣນິກຖືກນໍາໃຊ້ໃນທາງຍ່າງທັງofົດຂອງຊີວິດ,ແລະສຸດທ້າຍແລ້ວຜະລິດຕະພັນເອເລັກໂຕຣນິກ needtobecoatedbeforebeingputintothemhemet. ປະຈຸບັນ,ການນໍາໃຊ້ທົ່ວໄປເຄື່ອງດູດatingຸ່ນການຫຸ້ມຫໍ່ອຸປະກອນການເກັບມ້ຽນເຄື່ອງແມ່ຂ່າຍ

Sputtering ເປົ້າreາຍການອ້າງອີງຄໍາທີ່ໃຊ້ເຂົ້າໄປໃນເຄື່ອງcetາຍຄວາມວ່າຂໍ້ຄວາມທີ່ຖືກພິມອອກແລະການosາກໄວ້ຢູ່ໃນຂັ້ນພື້ນຖານທີ່ມີສັນຍາລັກຂອງຕາ ໜ່າງ ໄຟຟ້າ,ການເຊື່ອມໂລຫະຫຼາຍແຜ່ນອາລູມິນຽມຊະນິດອື່ນປະເພດການເຄືອບອຸປະກອນອຸປະກອນທີ່ເppາະສົມ

ເປົ້າmາຍວັດສະດຸມີຫຼາຍ ໜ້າ ທີ່,ແລະຕະຫຼາດການພັດທະນາຂອບເຂດກົດາຍ,ithasverygoodusesinmanyfields.ເກືອບທັງຫມົດໃຫມ່

Magnetronsputteringincludesmanytypes.Eachhasdifferentworkingprinciplesandapplicationobjects.Butthereisoningingincommon:ປະຕິສໍາພັນລະຫວ່າງພາກສະຫນາມແມ່ເຫຼັກແລະພາກສະຫນາມໄຟຟ້າ

Metallarget Referstothetargetmaterialsedinherent-speedenergeticparticlesbombardment.ແລະການປ່ຽນແປງວັດຖຸເປົ້າໝາຍທີ່ແຕກຕ່າງກັນ(ເຊັ່ນອາລູມິນຽມ,ທອງແດງ,ສະແຕນເລດ,titanium,nickeltargets,ແລະອື່ນ),ເຈົ້າ​ສາ​ມາດ

ເມື່ອບໍ່ດົນມານີ້,ມີfrູ່ຫຼາຍຄົນຖາມຫາກ່ຽວກັບຂັ້ນຕອນການປະມວນຜົນວິທີການທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງອາລູມີນຽມເປົ້າ..າຍ ..Expertspointedoutthatthat ວິທີການປະມວນຜົນວິທີການສັງກະສີ-ອາລູມີນຽມ

Tungstentitanium ເປົ້າispາຍຜະລິດໂດຍການໃຊ້ພະລັງງານໂລຫະຂະບວນການ. ປົກກະຕິ tungsten -titaniumcementedcarbidematerialscanbeprocessedbygrindingmethodstoensurethesurfacequality. ແນວໃດ