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일반적인 세라믹 스퍼터링 타겟은 무엇입니까

2021年10月10日

전자산업의 발전과 함께, 첨단 소재는 점차 박막화, 그리고 코팅 기간 동안, 그들은 빠르게 발전한다. 타겟은 고부가가치 특수전자소재, 스퍼터링 박막 재료의 원천입니다.. 비금속 박막 산업 발전의 기초 재료로, 세라믹 타겟은 전례 없는 발전을 이루었습니다., 타겟 시장은 나날이 확대되고 있습니다..

국내 세라믹 플랫 타겟은 주로 소결 및 결합 공정을 사용합니다., 600mm의 최대 길이를 생성할 수 있는, 최대 너비 400mm, 최대 두께 30mm. 둥근 모서리, 비스듬한 가장자리, 단계 및 기타 특수 모양은 고객 요구 사항에 따라 처리할 수 있습니다..

일반적인 세라믹 대상은 주로 다음을 포함합니다.: 이 타겟, 산화마그네슘 표적, 산화철 표적, 질화규소 타겟, 탄화규소 타겟, 질화 티타늄 타겟, 크롬 산화물 타겟, 산화아연 표적, 일산화규소 타겟, 산화세륨 표적, 아연 황화물 표적, 이산화규소 표적, 이산화 지르코늄 타겟, 오산화니오븀 표적, 이산화티타늄 타겟, 하프늄 이산화물 표적, 티타늄 디보라이드 타겟, 지르코늄 이붕화물 표적, 삼산화 텅스텐 타겟, 산화알루미늄, 타겟 오산화탄탈륨, 오산화니오븀 표적, 불화마그네슘 표적, 이트륨 불화물 표적, 아연 셀레나이드 타겟, 질화알루미늄 타겟, 질화규소 타겟, 질화붕소 타겟, 질화 티타늄 타겟, 탄화규소 타겟 , 리튬 니오베이트 타겟, 프라세오디뮴 티타네이트 표적, 바륨 티타네이트 타겟, 란탄 티타네이트 타겟, 산화니켈 타겟, 등..

세라믹 타겟의 종류:

(1) 화학 성분에 따르면, 그것은 산화물 세라믹 표적으로 나눌 수 있습니다, 실리사이드 세라믹 타겟, 질화물 세라믹 타겟, 불화물 세라믹 타겟 및 황화물 세라믹 타겟, 등.그 중, 평판 디스플레이 ITO 세라믹 타겟은 중국에서 널리 생산 및 적용되었습니다. 고유전율 절연 필름 및 거대 자기 저항 세라믹 타겟용 세라믹 타겟은 광범위한 적용 전망을 가지고 있습니다..

(2) 신청에 따르면, 반도체 관련 세라믹 타겟으로 나눌 수 있습니다., 디스플레이 세라믹 타겟, 자기 기록 세라믹 타겟, 광학 기록 세라믹 타겟, 초전도 세라믹 타겟, 거대한 자기 저항 세라믹 타겟, 등..

세라믹 타겟은 기존의 복잡한 전자 제품 제조에서 아주 작은 부분만을 차지합니다., 정보산업의 기초 선도소재로서의 역할을 하고 있습니다.. 우리나라 전자정보산업은 빠르게 발전하고 있습니다, 세라믹 스퍼터링 타겟에 대한 수요는 해마다 증가하고 있습니다.. 세라믹 스퍼터링 타겟의 미래 연구 및 개발은 우리나라 타겟 공급업체에게 중요한 주제가 될 것입니다..

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