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대상 물질의 상대 밀도와 다공성은 코팅 품질에 어떤 영향을 줍니까?

2021年10月10日

타겟의 상대 밀도는 타겟의 실제 밀도 대 이론 밀도의 비율입니다.. 단일 성분 타겟의 이론 밀도는 결정 밀도입니다.. 합금 또는 혼합물 타겟의 이론 밀도는 각 구성 요소의 이론 밀도와 합금 또는 혼합물의 조성에 의해 결정됩니다.. 백분율로 계산됩니다. 용사 대상의 구조는 느슨하고 다공성입니다., 그리고 산소 함량이 높다 (진공 스프레이라도, 합금 타겟에서 산화물 및 질화물 생성을 피하기 어렵습니다.), 표면은 회색, 금속 광택이 부족하다, 그리고 흡착된 불순물과 수분이 주원인. 오염원은 고진공의 빠른 획득을 방해합니다., 스퍼터링 과정에서 쉽게 방전으로 이어집니다., 심지어 대상 물질을 태워.

동시에, 타겟 스퍼터링 표면의 순간적인 고온으로 인해 느슨한 입자가 쉽게 떨어집니다., 유리 표면을 오염시키다, 코팅의 품질에 영향을 미칩니다. 코팅된 유리 표면의 점 이형에 대한 명확한 규정이 있습니다.. 상대 밀도가 높을수록, 성막 속도가 빠르고 스퍼터링 공정이 더 안정적입니다.. 타겟 물질의 준비 공정의 차이에 따라, 융합 주조 대상의 상대 밀도는 98%, 그리고 분말 야금 목표는 위에 보장되어야 합니다 97% 생산용..따라서, 슬래그 방울의 발생을 줄이기 위해 대상 물질의 밀도를 엄격하게 제어해야합니다. 분무 대상 물질은 밀도가 낮고 준비 비용이 낮습니다.. 상대 밀도가 다음 이상을 보장할 수 있는 경우 90%, 일반적으로 사용에 영향을 미치지 않습니다.. 현재, 중국에서 사용되는 SiA1 표적은 모두 살포 표적이다..

치밀화 뿐만 아니라, 생산 과정에서 대상 물질이 비정상인 경우, 가열되면 큰 입자가 떨어지거나 구멍이 수축하는 것과 같은, 더 많은 모공 (내부 결함) 형성될 것이다, 대상 물질의 내부가 더 크게 나타납니다. (녹는 표적>2mm, 분사 대상> 0.5mm) 또는 전하의 집중으로 인해 더 조밀한 구멍이 방전됩니다., 사용에 영향을 미칠 것입니다. 밀도가 낮고 기공이 있는 대상은 후속 처리 중에 잘리기 쉽습니다., 취급 또는 설치. 상대 밀도가 높고 기공이 적은 대상 물질은 열전도율이 좋습니다., 스퍼터링 타겟재 표면의 열이 타겟재 내면 또는 라이너의 냉각수로 쉽고 빠르게 전달, 그리고 방열도 잘되고, 따라서 필름 형성 공정의 안정성을 보장합니다..

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