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스퍼터링 타겟 중주파 마그네트론 스퍼터링에 대한 지식을 설명합니다.

2021年10月10日

마그네트론 스퍼터링에는 여러 유형이 포함됩니다. 각각 다른 작동 원리와 적용 대상이 있습니다. 그러나 한 가지 공통점이 있습니다.: 자기장과 전자 사이의 상호 작용은 전자가 목표 표면 주위를 나선형으로 만듭니다., 따라서 이온을 생성하기 위해 전자가 아르곤 가스를 치는 확률이 증가합니다. 생성된 이온은 스퍼터링 타겟을 스퍼터링하기 위해 전기장의 작용하에 타겟 표면과 충돌합니다. 최근 수십 년 동안 개발, 모든 사람들이 점차적으로 영구 자석을 채택했습니다., 거의 사용되지 않는 코일 자석..

중간 주파수 스퍼터링의 원리는 일반 DC 스퍼터링의 원리와 동일합니다.. 차이점은 DC 스퍼터링이 배럴을 양극으로 사용한다는 것입니다., 중간 주파수 스퍼터링이 쌍을 이루는 동안. 배럴의 참여 여부는 전체 디자인에 의해 결정되어야 합니다., 및 전체 시스템 스퍼터링 프로세스 동안, 양극과 음극의 배열은 관련이 있습니다. 비율 주기에 참여하는 방법에는 여러 가지가 있습니다.. 다른 방법은 다른 스퍼터링 수율과 다른 이온 밀도를 얻을 수 있습니다..

중간 주파수 스퍼터링의 주요 기술은 전원 공급 장치의 설계 및 적용에 있습니다.. 현재, 보다 성숙한 출력 방법은 사인파 및 펄스 구형파입니다.. 각각의 장점과 단점이 있습니다. 첫 번째, 필름층의 종류를 고려하여 어떤 전원 출력 방식이 적합한지 분석. 필름층, 전원 공급 장치 특성을 사용하여 원하는 필름 효과를 얻을 수 있습니다..

타겟은 중간 주파수 타겟에 사용됩니다., 일부 스퍼터링 타겟은 3쌍을 사용합니다. 타겟은 상대적으로 큽니다.. 중간 주파수에 관한 한, 대부분의 공작물은 일부 금속으로 도금됩니다. 이러한 진공로는 일반적으로 비교적 크게 만들어집니다., 많은 작업 부분을 놓을 수 있는, 그리고 도금된 필름은 더 조밀합니다..

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