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大面積コーティングの製造におけるスパッタリングターゲットの純度と材料の均一性の影響

2021年10月10日

ターゲット材料のコーティングの編集者は以前に言及されています, スパッタリングプロセスで, ターゲット材料の品質は、従来の材料産業の品質よりも高いです。この記事では, 編集者は、大面積コーティングに対するターゲット材料の純度と材料の均一性の影響を引き続き紹介します. 是非、学んでください〜

スパッタリングターゲット材料の純度は、コーティングされるフィルムの性能に大きな影響を与えます。きれいなガラスが高真空コーティングチャンバーに入るとき, 対象物質の純度が十分でない場合, ターゲット材料中の不純物粒子は、電界と磁界の作用下でのスパッタリングプロセス中にガラス表面に付着します. 分離現象がしっかりと現れるため, ターゲットの純度が高いほど, 堆積した膜の性能が向上します.

熱伝導率の低いターゲット用, SiA1ターゲットなど, ターゲットに不純物が存在すると、熱伝達がブロックされることがよくあります, または生産に使用される冷却水温度と実際のコーティングライン水温の差, 等, 使用中にターゲットにひびが入る. 小さな亀裂はコーティングの製造に大きな影響を与えませんが、, 対象材料に明らかな亀裂がある場合, 電荷は亀裂部分の端に集中するのが非常に簡単です, ターゲット表面に異常放電が発生します。放電現象によりスラグドロップが発生します。, 異常な皮膜形成, と製品スクラップの増加。したがって。, ターゲットを準備する過程で, 純度の制御に加えて, 準備プロセスの条件も制御する必要があります.

合金ターゲット用, 不均一な材料分布が頻繁に発生します, SiAlターゲットでのアルミニウムの凝集など, 亜鉛-アルミニウムターゲットにおけるアルミニウムの分離 (アルミニウムの原子量は 27 亜鉛の原子量未満 65, アルミニウムは、注入後の冷却プロセス中に冷却されます. 浮き上がる, 片側で高いアルミニウム含有量を引き起こし、片側で低いアルミニウム含有量を引き起こします).融点が低いため, SiA1ターゲット内の凝集したAlは、スパッタリング膜形成プロセス中にドロスを起こしやすい, スプレープロセス中に追加されるA1の量は確実です. 凝集の一部が発生したとき, 他の場所のアルミニウム含有量が少ないことを示しています, SiA1ターゲットに影響します. フィルムの熱伝導率と電気伝導率, 一貫性のないスパッタリング速度をもたらす, フィルムの均一性が悪い, 対象材料のひび割れ, ターゲット放電の現象を悪化させる, また、膜形成の品質を低下させます。ターゲット成分の分離は、スパッタリング速度に影響を与えます。 (フィルムの均一性) とフィルム構成。したがって。, ターゲット材料の純度を制御することに加えて, 合金ターゲット内の材料の分布も非常に重要です.

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