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電子製品のスパッタリングコーティングに使用されるターゲット

2021年10月19日

電子製品はあらゆる分野で使用されています, これらの電子製品のほとんどは、市場に出す前にコーティングする必要があります. 現在, 一般的に使用される真空コーティング装置は、マグネトロンスパッタリング真空コーティング機です。. ここ, スパッタリングで使用されるターゲットを見てみましょう。, 私たちが使用する対象材料は3種類に過ぎません: 金属ターゲット, 合金ターゲット, および複合ターゲット。.

ハードディスクで使用される多くのターゲットがあります. 記録面に多層フィルムをメッキ. 各映画には独自の機能があります. 最下層, 40nm厚のクロムまたはクロム合金は、接着性と耐食性を高めるためにメッキされます. , そして、真ん中に15nmの厚さのコバルトクロム合金でメッキされています, その後、35nmの厚さのコバルト合金でメッキします, 磁性体として, この材料は、磁性と低干渉の特性を完全に反映することができます, 最後に15nmの厚さのカーボンフィルムでメッキ.

磁気ヘッドのスパッタリングターゲットは、一般的に使用される鉄ニッケル合金です。, いくつかの新しい複合材料が後で追加されました, 窒化鉄など, 窒化タンタル鉄, 窒化鉄アルミニウム, 等, これらはすべて高品質の磁性誘電体膜ターゲット材料です.

CDディスクは、プラスチックワークピースにメッキされる反射層としてアルミニウムフィルムを使用します, ただし、CDROMおよびDVDROMディスクの場合, アルミフィルムは使用できません, これらのディスクには染料の層があるからです, アルミニウムの物質はある程度腐食性があります, そしてそれは一般的に金または銀のフィルムに置き換えられます.

光ディスクのフィルム層も複数の層で構成されています. 染料層上に厚さ30nmの鉄-コバルト合金記録層でコーティングされています, アモルファス希土類遷移元素と混合されています, その後、 20 厚さ100nmまでの窒化ケイ素誘電体層. 最後にアルミニウム反射層でコーティング.

磁気特性を実現する必要があり、データを記録できるこれらの電子製品, これらの機能を実現するために, まださまざまな物質によってスパッタされたフィルムに依存する必要があります, 膜が形成された後に表示される結晶状態の順序。.

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