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マグネトロンスパッタリングターゲット

マグネトロンスパッタリングターゲット

1) マグネトロンスパッタリングの原理. スパッタされたターゲットポールで (陰極) 直交する磁場と電場の追加の間のアノード, 必要な不活性ガスで満たされた高真空チャンバー内 (通常Arガス), の磁場を形成するためのターゲット材料表面の永久磁石 250 〜 350 ガウス, with the high voltage electric field

携帯電話の液晶画面において、金属モリブデンターゲットはどのような役割を果たしていますか?

携帯電話の液晶画面において、金属モリブデンターゲットはどのような役割を果たしていますか?

現在,どこにでも頭が下がっている人がいます,と携帯電話は、公衆にとって最も不可欠なものになっています,そして携帯電話のディスプレイはますますハイエンドになりつつあります,フルスクリーンデザイン,smallbangsdesign,NS

高純度アルミニウムスパッタリングターゲット産業の発展

高純度アルミニウムスパッタリングターゲット産業の発展

高純度アルミニウムスパッタリングターゲット産業の開発。電子新素材産業の急速な発展とともに,新しい電子材料製品の需要(含む

復号化, 真空電気めっきにおけるターゲット材料の適用

復号化, 真空電気めっきにおけるターゲット材料の適用

時代の発展とともに,より安全であるための要件を満たすために,より多くの省エネ,ノイズを減らす,汚染物質の排出量を削減します,表面治療者

円筒形および平面マグネトロンスパッタリングターゲットの利点

円筒形および平面マグネトロンスパッタリングターゲットの利点

他の形態の磁石スパッタリングターゲットとの比較,円筒形および平面アームのアグネトロンスパッタリングターゲットは、長方形のフラットターゲットに対して良好なコーティング均一性のヘッドアドバンテージを保持します,NS

電子製品のスパッタリングコーティングに使用されるターゲット

電子製品のスパッタリングコーティングに使用されるターゲット

電子製品はすべての人生の歩みで使用されます,そして、これらの電子製品のほとんどは、市場に出す前にコーティングする必要があります。,一般的に使用される真空コーティング装置

スパッタリングターゲットの作り方

スパッタリングターゲットの作り方

スパッタターゲットとは、磁気スパッタリングによって基板上にスパッタおよび堆積されたスパッタ源を指します。,適切な手順の下でのマルチアーシオンメッキまたは他のタイプのコーティング装置

真空電気めっきにおけるターゲットの使用

真空電気めっきにおけるターゲットの使用

ターゲットマテリアルには多くの機能があります,そして市場開発スペースは大きい,ithasverygoodusesinmanyfields.Almostallnew

Magnetron sputtering type

Magnetron sputtering type

Magnetronsputteringincludesmanytypes.Eachhasdifferentworkingprinciplesandapplicationobjects.Butthereisonethingincommon:theinteractionbetweenthemagneticfieldandtheelectricfieldmak

Introduction to the production method of titanium aluminum alloy target

Introduction to the production method of titanium aluminum alloy target

Metaltargetreferstothetargetmaterialusedinhigh-speedenergeticparticlebombardment.Andbychangingdifferenttargetmaterials(suchasaluminum,銅,stainlesssteel,チタン,nickeltargets,等),youcan

高純度アルミターゲット加工方法

高純度アルミターゲット加工方法

最近,多くの友人が高純度アルミニウムターゲットの処理方法について質問しました。専門家は、亜鉛-アルミニウムターゲットの処理方法を指摘しました。

タングステンチタンターゲットの新しい旋削方法

タングステンチタンターゲットの新しい旋削方法

タングステンチタンターゲットは、dbypowder冶金プロセスを生成します。通常のタングステンチタンセメントカーバイド材料は、表面品質を確保するために粉砕方法で処理できます。

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