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L'uso del bersaglio nella galvanica sotto vuoto

2021年10月19日

Il materiale di destinazione ha molte funzioni, e lo spazio di sviluppo del mercato è ampio, it has very good uses in many fields.Almost all new sputtering equipment use powerful magnets to move the electrons in a spiral motion to accelerate the ionization of the argon gas around the target, resulting in an increase in the collision probability between the target and the argon ions.

Aumentare il tasso di sputtering. Generalmente, i rivestimenti metallici utilizzano principalmente lo sputtering DC, mentre i materiali ceramici non conduttivi utilizzano sputtering AC RF. Il principio di base è utilizzare la scarica ad incandescenza nel vuoto per colpire l'argon (Insieme a) ioni sul bersaglio. Sulla superficie, the cations in the plasma will accelerate to the surface of the negative electrode as the sputtered material. Questo impatto farà volare via il materiale bersaglio e si depositerà sul substrato per formare un film sottile.

Parlando in generale, l'uso del processo di sputtering per il rivestimento del film ha diverse caratteristiche: (1) Metallo, la lega o l'isolante possono essere trasformati in materiale cinematografico.(2) In condizioni di impostazione appropriate, un film sottile della stessa composizione può essere realizzato da bersagli multipli e complessi.(3) Aggiungendo ossigeno o altri gas attivi nell'atmosfera di scarico, può essere prodotta una miscela o un composto di materiale bersaglio e molecole di gas.(4) È possibile controllare la corrente di ingresso target e il tempo di sputtering, ed è facile ottenere spessori di film ad alta precisione.(5) Rispetto ad altri processi, è più favorevole alla produzione di film uniformi di grandi dimensioni.(6) Le particelle che sputtering non sono quasi influenzate dalla gravità, e le posizioni del bersaglio e del substrato possono essere organizzate liberamente.

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