Processo di rivestimento PVD e relativo sviluppo tecnologico

PVD è l'abbreviazione di Physical Vapor Deposition (Deposizione fisica da vapore) in inglese. Si riferisce all'uso di bassa tensione, tecnologia di scarica ad arco ad alta corrente in condizioni di vuoto, e l'uso di scarichi di gas per rendereObbiettivoEvaporare e ionizzare la sostanza e il gas vaporizzati, e utilizzare l'accelerazione del campo elettrico per depositare la sostanza vaporizzata e i suoi prodotti di reazione sul pezzo.

La tecnologia PVD è apparsa alla fine degli anni '70, e il film preparato presenta i vantaggi di un'elevata durezza, basso coefficiente di attrito, buona resistenza all'usura e stabilità chimica, ecc.. L'applicazione iniziale di successo nel campo degli utensili da taglio in acciaio ad alta velocità ha attirato grande attenzione da parte delle industrie manifatturiere di tutto il mondo. Durante lo sviluppo di apparecchiature di rivestimento ad alte prestazioni e alta affidabilità, hanno inoltre effettuato rivestimenti più approfonditi su utensili da taglio in metallo duro e ceramica. Ricerca sull'applicazione dei livelli.

Rispetto al processo CVD,Processo PVDLa temperatura di lavorazione è bassa, e non ha alcun effetto sulla resistenza alla flessione del materiale dell'utensile quando la temperatura è inferiore a 600 ℃; lo stato di stress interno del film è lo stress di compressione, che è più adatto per il rivestimento di precisione in metallo duro e strumenti complessi; il processo PVD non ha alcun impatto negativo sull'ambiente, ed è conforme alla direzione di sviluppo della moderna produzione verde, La tecnologia di rivestimento PVD è stata ampiamente utilizzata nel trattamento di rivestimento delle frese in metallo duro, trapani, trapani passo, trapani per pozzi d'olio, alesatori, rubinetti, inserti di fresatura indexabili, strumenti di forma speciale, strumenti di saldatura, eccetera..

La tecnologia PVD non solo migliora la forza di adesione tra il film e il materiale della matrice dell'utensile, ma anche la composizione del rivestimento si è sviluppata da TiN a TiC, TiCN, ZrN, CrN, MoS2, TiAlN, TiAlCN, TiN-AlN, CNx, DLC, e ta-C. Rivestimento.

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