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Analisi del problema dell'avvelenamento e dell'annerimento della metà bersaglio dopo sputtering

2021年8月31日

 

Domanda: La tecnologia di polverizzazione magnetron reattiva deposita film di nitruro di zirconio, l'obiettivo è di due pollici, il gas sputtering è argon, il gas reattivo è N2, la potenza è 300W, l'alimentatore a radiofrequenza, la deposizione è di due ore, e il bersaglio viene eliminato dopo il completamento. Guarda il fenomeno descritto nel titolo, se si tratta di avvelenamento da bersaglio o altri motivi, ma perché appare solo la metà??

Analisi della ragione 1: Potrebbe essere correlato all'introduzione della potenza a radiofrequenza

Analisi della ragione 2: Un obiettivo così piccolo, due pollici?È l'uniforme di raffreddamento??

Analisi della ragione 3: 300La potenza W viene aggiunta a un obiettivo così piccolo, il raffreddamento può continuare Si sospetta che il raffreddamento non sia buono?, causando metà del nero!

Analisi della ragione 4: raffreddamento insufficiente. La temperatura è troppo alta??

Analisi della ragione 5: Potrebbe essere correlato all'elevata potenza. Oso solo aumentare la potenza del bersaglio con un diametro di 60 a circa 100W.

Analisi delle cause 6: L'alimentatore è stabile in due ore Può essere che l'energia sia troppo alta?, oppure può essere che il lato del bersaglio tocchi un componente messo a terra

Analisi della ragione 7: Si sospetta che ci sia un problema con la tenuta all'aria, personalmente penso

Soluzione 1: Suggerimento 1) Controllare l'uniformità del gas; 2) Se ci sono perdite d'aria da un lato?

Soluzione 2: Si consiglia di eseguire un'analisi XPS, o rifai l'esperimento.

Riepilogo: Sulla base dell'analisi di cui sopra, i motivi principali che causano l'avvelenamento e il nero del bersaglio sono la temperatura eccessivamente alta, alimentazione instabile, uniformità del gas e tenuta all'aria. Verificare queste possibili cause principali, e risolverli passo dopo passo.

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