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Vantaggi degli obiettivi di sputtering magnetron cilindrici e planari

2021年10月19日

Rispetto ad altre forme di bersagli di magnetron sputtering, bersagli cilindrici e planari a magnetron sputtering conservano i vantaggi di una buona uniformità di rivestimento per bersagli piatti rettangolari, e può massimizzare il materiale di destinazione attraverso i seguenti due modi Tasso di utilizzo:

(1) Quando i due gruppi (quattro) delle fosse a forma di anello sulla superficie del bersaglio raggiungono una certa profondità, il nucleo di destinazione (parte magnetica) può essere ruotato di 45° rispetto al tubo target, in modo che le altre aree del tubo bersaglio che non sono state corrose possano essere sfruttate

(2) Quando il nucleo target del target di sputtering magnetron cilindrico e planare è progettato come nucleo target rotante, (il nucleo target ruota durante lo sputtering), la superficie del materiale target può essere spruzzata uniformemente strato per strato, e non ci saranno pozzi. A quest'ora, il materiale di destinazione sarà utilizzato nel modo più efficace, e il tasso di utilizzo del materiale target può raggiungere 50% a 60%. Quando il materiale di destinazione è un materiale in metallo prezioso, questo è senza dubbio di grande importanza..

Adottando il principio del magnete e della scarpa nell'obiettivo di sputtering del magnetron cilindrico coassiale per risolvere il problema del campo magnetico finale, il bersaglio planare rettangolare può essere evoluto in un cilindro, bersaglio planare magnetron sputtering, che mantiene il rivestimento del bersaglio planare rettangolare In caso di buona uniformità, il tasso di utilizzo del materiale target può essere massimizzato, migliorando così i benefici economici.

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