Selamat datang di website kami
0086-18429179711 [email protected]

Tantalum

» Tantalum

Klasifikasi bahan target sputtering

CATEGORY AND TAGS:
Tantalum

 

enquiry
  • Product Description

Target logam
Target nikel Ni, target titanium Ti, target seng Zn, target kromium Cr, target magnesium Mg, target niobium Nb, target timah Sn, target aluminium Al, target indium, target besi Fe, target zirkonium ZrAl, target titanium TiAl, target zirkonium Zr, aluminium silikon target AlSi, target silikon Si, target tembaga Cu, target tantalum Ta, target germanium Ge, target perak Ag, target kobalt Co, target emas Au, gadolinium target Gd, target lantanum La, target yttrium Y, target cerium Ce, sasaran baja tahan karat, NiCr, Hafnium Hf, Mo, FeNi, W, dll.
Target keramik
target TI, target magnesium oksida, target oksida besi, target silikon nitrida, target silikon karbida, target titanium nitrida, target kromium oksida, target seng oksida, target seng sulfida, target silikon dioksida, target silikon oksida, target serium oksida, target zirkonium dioksida, target niobium pentoksida, target titanium dioksida, target zirkonium dioksida, target hafnium dioksida, target titanium diboride, target zirkonium diborida, target tungsten trioksida, aluminium trioksida menargetkan tantalum pentoksida, target niobium pentoxide Target magnesium fluoride, target yttrium fluoride, target seng selenide, target aluminium nitrida, target silikon nitrida, target boron nitrida, target titanium nitrida, target silikon karbida, target lithium niobate, target praseodymium titanate, target barium titanat, target lantanum titanat, target nikel oksida, target tergagap, dll.
Target paduan
FeCo, AlSi, TiSi, CrSi, ZnAl, TiZn, TiAl, TiZn, TiZr, TiSi, TiNi, NiCr, NiAl, NiV, NiFe, dll. [1]
Suara Editor Pengembangan
Berbagai jenis bahan film tipis sputtering telah banyak digunakan dalam sirkuit terpadu semikonduktor (VLSI), cakram optik, tampilan panel datar dan pelapis permukaan benda kerja, dll. Sejak tahun 1990-an, pengembangan simultan target sputtering dan teknologi sputtering telah sangat memenuhi kebutuhan pengembangan berbagai komponen elektronik baru. Sebagai contoh, dalam proses pembuatan sirkuit terpadu semikonduktor, resistivitas yang lebih rendah dari film konduktor tembaga daripada kabel film aluminium: di industri layar panel datar, berbagai teknologi tampilan (seperti LCD, PDP, OLED dan FED, dll.) perkembangan simultan, beberapa telah digunakan di komputer dan komputer untuk pembuatan tampilan; dalam industri penyimpanan informasi, kapasitas penyimpanan memori magnetik terus meningkat, bahan perekam optik magnetik baru Ini adalah target sputtering yang diperlukan untuk kualitas persyaratan yang semakin tinggi, jumlah permintaan juga meningkat dari tahun ke tahun.

Diterjemahkan dengan www.DeepL.com/Translator (versi gratis)

Enquiry Form (we will get back to you ASAP)

Name:
*
Surel:
*
Message:

Verification:
5 + 9 = ?

Mungkin kamu juga suka

  • Product Categories

  • Bagikan ke teman

  • PERUSAHAAN

    Shaanxi Zhongbei Titanium Tantalum Niobium Bahan Logam Co., Ltd. adalah perusahaan Cina yang berspesialisasi dalam pemrosesan logam non-ferrous, melayani pelanggan global dengan produk berkualitas tinggi dan layanan purna jual yang sempurna.

  • Hubungi kami

    Seluler:86-400-660-1855
    Surel:[email protected]
    Web:www.chn-ti.com