Berita industri

1) Prinsip sputtering magnetron. Di tiang target yang tergagap (katoda) dan anoda antara penambahan medan magnet dan listrik ortogonal, dalam ruang vakum tinggi yang diisi dengan gas inert yang dibutuhkan (biasanya gas Ar), magnet permanen di permukaan bahan target untuk membentuk medan magnet 250 ~ 350 gauss, with the high voltage electric field …

Dewasa ini,ada orang-orang dengan kepala tertunduk di mana-mana,dan ponsel telah menjadi hal yang paling penting bagi publik,dan tampilan ponsel menjadi semakin canggih,desain layar penuh,desain poni kecil,Sebuah

Perkembangan industri target sputtering aluminium kemurnian tinggi. Dengan perkembangan pesat industri material baru elektronik,permintaan akan produk bahan elektronik baru(termasuk

Dengan perkembangan zaman,untuk memenuhi persyaratan menjadi lebih aman,lebih hemat energi,mengurangi kebisingan,dan mengurangi emisi polutan,perawatan di permukaan

Dibandingkan dengan bentuk lain dari target semburan magnet,silindrislandplanarmagnetronsputteringtargetmempertahankankeuntunganpelapisan yang baikkeseragamanuntuktarget datar persegi panjang,Sebuah

Produk elektronikdigunakan di semua lapisan masyarakat,dan sebagian besar produk elektronik ini perlu dilapisi sebelum dipasarkan.,peralatan pelapis vakum yang biasa digunakan adalah magnet

Target sputtering mengacu pada sumber sputtering yang tergagap dan disimpan pada substrat dengan magnetron sputtering,pelapisan multi-arcionatauperalatan pelapis jenis lain di bawah prosedur yang sesuai

Bahan target memiliki banyak fungsi,dan ruang pengembangan pasar besar,ithasverygoodusesinmanyfields.Almostallnew

Magnetronsputteringincludesmanytypes.Eachhasdifferentworkingprinciplesandapplicationobjects.Butthereisonethingincommon:theinteractionbetweenthemagneticfieldandtheelectricfieldmak

Metaltargetreferstothetargetmaterialusedinhigh-speedenergeticparticlebombardment.Andbychangingdifferenttargetmaterials(suchasaluminum,tembaga,stainlesssteel,titanium,nickeltargets,dll.),youcan

Baru-baru ini,banyak teman telah bertanya tentang metode pemrosesan target aluminium kemurnian tinggi.. Para ahli menunjukkan bahwa metode pemrosesan target seng-aluminiumsc

Target tungstenitanium diproduksi oleh proses metalurgi bubuk. Bahan karbida disemen tungsten-titanium biasa dapat diproses dengan metode penggilingan untuk memastikan kualitas permukaan. Bagaimana