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सामान्य सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य क्या हैं

2021年10月10日

इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के विकास के साथ, हाई-टेक सामग्री धीरे-धीरे पतली फिल्मों में स्थानांतरित हो रही है, और कोटिंग अवधि के दौरान, वे तेजी से विकसित होते हैं. लक्ष्य उच्च वर्धित मूल्य के साथ एक विशेष इलेक्ट्रॉनिक सामग्री है, और यह पतली फिल्म सामग्री के स्पटरिंग का स्रोत है। गैर-धातु पतली फिल्म उद्योग के विकास के लिए मूल सामग्री के रूप में, सिरेमिक लक्ष्यों ने अभूतपूर्व विकास हासिल किया है, और लक्ष्य बाजार दिन-ब-दिन विस्तार कर रहा है।.

घरेलू सिरेमिक फ्लैट लक्ष्य मुख्य रूप से सिंटरिंग और बाइंडिंग प्रक्रियाओं का उपयोग करते हैं, जो 600mm . की अधिकतम लंबाई का उत्पादन कर सकता है, 400 मिमी . की अधिकतम चौड़ाई, और 30mm . की अधिकतम मोटाई. गोल कोनों, बेवल किनारों, चरणों और अन्य विशेष आकृतियों को ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार संसाधित किया जा सकता है।.

आम सिरेमिक लक्ष्यों में मुख्य रूप से शामिल हैं: यह लक्ष्य, मैग्नीशियम ऑक्साइड लक्ष्य, आयरन ऑक्साइड लक्ष्य, सिलिकॉन नाइट्राइड लक्ष्य, सिलिकॉन कार्बाइड लक्ष्य, टाइटेनियम नाइट्राइड लक्ष्य, क्रोमियम ऑक्साइड लक्ष्य, जिंक ऑक्साइड लक्ष्य, सिलिकॉन मोनोऑक्साइड लक्ष्य, सेरियम ऑक्साइड लक्ष्य, जिंक सल्फाइड लक्ष्य, सिलिकॉन डाइऑक्साइड लक्ष्य, जिरकोनियम डाइऑक्साइड लक्ष्य, नाइओबियम पेंटोक्साइड लक्ष्य, टाइटेनियम डाइऑक्साइड लक्ष्य, हेफ़नियम डाइऑक्साइड लक्ष्य, टाइटेनियम डाइबोराइड लक्ष्य, जिरकोनियम डाइबोराइड लक्ष्य, टंगस्टन ट्रायऑक्साइड लक्ष्य, एल्यूमीनियम ऑक्साइड, लक्ष्य टैंटलम पेंटोक्साइड, नाइओबियम पेंटोक्साइड लक्ष्य, मैग्नीशियम फ्लोराइड लक्ष्य, येट्रियम फ्लोराइड लक्ष्य, जिंक सेलेनाइड लक्ष्य, एल्यूमीनियम नाइट्राइड लक्ष्य, सिलिकॉन नाइट्राइड लक्ष्य, बोरॉन नाइट्राइड लक्ष्य, टाइटेनियम नाइट्राइड लक्ष्य, सिलिकॉन कार्बाइड लक्ष्य , लिथियम नाइओबेट लक्ष्य, प्रेजोडायमियम टाइटेनेट लक्ष्य, बेरियम टाइटेनेट लक्ष्य, लैंथेनम टाइटेनेट लक्ष्य, निकल ऑक्साइड लक्ष्य, आदि।.

सिरेमिक लक्ष्य के प्रकार:

(1) रासायनिक संरचना के अनुसार, इसे ऑक्साइड सिरेमिक लक्ष्य में विभाजित किया जा सकता है, सिलिकाइड सिरेमिक लक्ष्य, नाइट्राइड सिरेमिक लक्ष्य, फ्लोराइड सिरेमिक लक्ष्य और सल्फाइड सिरेमिक लक्ष्य, आदि.. उनमें से, फ्लैट डिस्प्ले आईटीओ सिरेमिक लक्ष्य चीन में व्यापक रूप से उत्पादित और लागू किया गया है। उच्च ढांकता हुआ इन्सुलेट फिल्मों और विशाल चुंबकत्व सिरेमिक लक्ष्यों के लिए सिरेमिक लक्ष्यों में व्यापक अनुप्रयोग संभावनाएं हैं.

(2) आवेदन के अनुसार, इसे अर्धचालक से संबंधित सिरेमिक लक्ष्यों में विभाजित किया जा सकता है, सिरेमिक लक्ष्य प्रदर्शित करें, चुंबकीय रिकॉर्डिंग सिरेमिक लक्ष्य, ऑप्टिकल रिकॉर्डिंग सिरेमिक लक्ष्य, सुपरकंडक्टिंग सिरेमिक लक्ष्य, विशाल चुंबकत्व सिरेमिक लक्ष्य, आदि।.

सिरेमिक लक्ष्य मौजूदा जटिल इलेक्ट्रॉनिक उत्पाद निर्माण के बहुत छोटे हिस्से के लिए जिम्मेदार हैं, लेकिन वे सूचना उद्योग के लिए एक बुनियादी अग्रणी सामग्री के रूप में एक भूमिका निभाते हैं..मेरे देश का इलेक्ट्रॉनिक सूचना उद्योग तेजी से विकसित हो रहा है, और सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्यों की मांग साल दर साल बढ़ रही है. सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्यों का भविष्य का अनुसंधान और विकास हमारे देश के लक्षित आपूर्तिकर्ताओं के लिए एक महत्वपूर्ण विषय होगा।.

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