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वैक्यूम इलेक्ट्रोप्लेटिंग में लक्ष्य का उपयोग

2021年10月19日

लक्ष्य सामग्री के कई कार्य हैं, और बाजार विकास की जगह बड़ी है, it has very good uses in many fields.Almost all new sputtering equipment use powerful magnets to move the electrons in a spiral motion to accelerate the ionization of the argon gas around the target, resulting in an increase in the collision probability between the target and the argon ions.

स्पटरिंग दर बढ़ाएँ। आम तौर पर, धातु कोटिंग्स ज्यादातर डीसी स्पटरिंग का उपयोग करते हैं, जबकि गैर-प्रवाहकीय सिरेमिक सामग्री आरएफ एसी स्पटरिंग का उपयोग करती है. मूल सिद्धांत आर्गन को प्रभावित करने के लिए निर्वात में ग्लो डिस्चार्ज का उपयोग करना है (साथ) लक्ष्य पर आयन. सतह पर, the cations in the plasma will accelerate to the surface of the negative electrode as the sputtered material. इस प्रभाव के कारण लक्ष्य सामग्री उड़ जाएगी और एक पतली फिल्म बनाने के लिए सब्सट्रेट पर जमा हो जाएगी.

आम तौर पर बोलना, फिल्म कोटिंग के लिए स्पटरिंग प्रक्रिया के उपयोग में कई विशेषताएं हैं: (1) धातु, मिश्र धातु या इन्सुलेटर फिल्म सामग्री में बनाया जा सकता है।(2) उपयुक्त सेटिंग शर्तों के तहत, एक ही रचना की एक पतली फिल्म कई और जटिल लक्ष्यों से बनाई जा सकती है।(3) निर्वहन वातावरण में ऑक्सीजन या अन्य सक्रिय गैसों को जोड़कर, लक्ष्य सामग्री और गैस के अणुओं का मिश्रण या यौगिक बनाया जा सकता है।(4) लक्ष्य इनपुट वर्तमान और स्पटरिंग समय नियंत्रित किया जा सकता है, और उच्च परिशुद्धता फिल्म मोटाई प्राप्त करना आसान है।(5) अन्य प्रक्रियाओं की तुलना में, यह बड़े क्षेत्र की समान फिल्मों के निर्माण के लिए अधिक अनुकूल है।(6) स्पटरिंग कण गुरुत्वाकर्षण से लगभग प्रभावित नहीं होते हैं, और लक्ष्य और सब्सट्रेट की स्थिति को स्वतंत्र रूप से व्यवस्थित किया जा सकता है.

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