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स्पटरिंग का प्रभाव बड़े क्षेत्र के कोटिंग उत्पादन पर शुद्धता और भौतिक एकरूपता को लक्षित करता है

2021年10月10日

लक्ष्य सामग्री के लेप के संपादक का उल्लेख पहले किया जा चुका है, स्पटरिंग प्रक्रिया में, लक्ष्य सामग्री की गुणवत्ता पारंपरिक सामग्री उद्योग की तुलना में अधिक है..इस लेख में, संपादक बड़े क्षेत्र के कोटिंग पर लक्ष्य सामग्री की शुद्धता और भौतिक एकरूपता के प्रभाव का परिचय देना जारी रखेगा. आओ और इसके बारे में जानें ~

स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री की शुद्धता का लेपित होने वाली फिल्म के प्रदर्शन पर अधिक प्रभाव पड़ता है। जब साफ कांच उच्च-वैक्यूम कोटिंग कक्ष में प्रवेश करता है, यदि लक्ष्य सामग्री की शुद्धता पर्याप्त नहीं है, विद्युत क्षेत्र और चुंबकीय क्षेत्र की कार्रवाई के तहत स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान लक्ष्य सामग्री में अशुद्धता कण कांच की सतह का पालन करेंगे. पृथक्करण घटना दृढ़ता से प्रकट होती है। इसलिए, लक्ष्य की शुद्धता जितनी अधिक होगी, जमा फिल्म का बेहतर प्रदर्शन.

खराब तापीय चालकता वाले लक्ष्यों के लिए, जैसे SiA1 लक्ष्य, लक्ष्य में अशुद्धियों की उपस्थिति अक्सर गर्मी हस्तांतरण को अवरुद्ध करने का कारण बनती है, या उत्पादन में प्रयुक्त ठंडे पानी के तापमान और वास्तविक कोटिंग लाइन पानी के तापमान के बीच का अंतर, आदि।, उपयोग के दौरान लक्ष्य में दरार का कारण बनता है. कोटिंग्स के उत्पादन पर मामूली दरारों का बहुत अधिक प्रभाव नहीं पड़ेगा। हालांकि, जब लक्ष्य सामग्री में स्पष्ट दरारें हों, दरार भाग के किनारे पर ध्यान केंद्रित करना बहुत आसान है, जो लक्ष्य सतह पर असामान्य निर्वहन का कारण होगा।। निर्वहन घटना स्लैग ड्रॉप का कारण बनेगी, असामान्य फिल्म निर्माण, और उत्पाद स्क्रैप में वृद्धि हुई। इसलिए, लक्ष्य तैयार करने की प्रक्रिया में, शुद्धता को नियंत्रित करने के अलावा, तैयारी प्रक्रिया की स्थिति को भी नियंत्रित किया जाना चाहिए.

मिश्र धातु लक्ष्यों के लिए, असमान सामग्री वितरण अक्सर होता है, जैसे कि SiAl लक्ष्य में एल्युमिनियम का ढेर, जस्ता-एल्यूमीनियम लक्ष्य में एल्यूमीनियम का पृथक्करण (एल्यूमीनियम का परमाणु द्रव्यमान है 27 जिंक के परमाणु द्रव्यमान से कम 65, और एल्यूमीनियम डालने के बाद शीतलन प्रक्रिया के दौरान ठंडा किया जाता है. ऊपर तैर जाएगा, एक तरफ उच्च एल्यूमीनियम सामग्री और एक तरफ कम होने का कारण).कम गलनांक के कारण, SiA1 लक्ष्य में एग्लोमेरेटेड अल स्पटरिंग फिल्म निर्माण प्रक्रिया के दौरान सकल होने की संभावना है, और छिड़काव प्रक्रिया के दौरान जोड़ा गया A1 की मात्रा निश्चित है. जब ढेर का हिस्सा होता है, यह इंगित करता है कि अन्य स्थानों में एल्युमीनियम की मात्रा कम है, जो SiA1 लक्ष्य को प्रभावित करता है. फिल्म की तापीय चालकता और विद्युत चालकता, असंगत स्पटरिंग दर के परिणामस्वरूप, खराब फिल्म एकरूपता, लक्ष्य सामग्री का टूटना, लक्ष्य निर्वहन की घटना को बढ़ाना, और फिल्म निर्माण की गुणवत्ता को भी कम करना। लक्ष्य घटकों का अलगाव स्पटरिंग दर को प्रभावित करेगा (फिल्म एकरूपता) और फिल्म रचना। इसलिए, लक्ष्य सामग्री की शुद्धता को नियंत्रित करने के अलावा, मिश्र धातु लक्ष्य में सामग्री का वितरण भी बहुत महत्वपूर्ण है.

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