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स्पटरिंग टारगेट कैसे तैयार करें

2021年10月19日

स्पटरिंग लक्ष्य एक स्पटरिंग स्रोत को संदर्भित करता है जिसे स्पटर किया जाता है और मैग्नेट्रोन स्पटरिंग द्वारा सब्सट्रेट पर जमा किया जाता है, विभिन्न कार्यात्मक पतली फिल्मों को बनाने के लिए उपयुक्त प्रक्रिया परिस्थितियों में बहु-चाप आयन चढ़ाना या अन्य प्रकार के कोटिंग उपकरण। स्पटरिंग लक्ष्य व्यापक रूप से सजावट जैसे कई क्षेत्रों में उपयोग किए जाते हैं, टूलींग, कांच, इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, अर्धचालकों, चुंबकीय रिकॉर्डिंग, फ्लैट प्रदर्शन, सौर कोशिकाएं, आदि. विभिन्न क्षेत्रों में आवश्यक लक्ष्य सामग्री भिन्न होती है.

स्पटरिंग लक्ष्य की तैयारी

स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री की तैयारी को दो श्रेणियों में विभाजित किया जा सकता है: प्रक्रिया के अनुसार पिघला हुआ कास्टिंग और पाउडर धातु विज्ञान. शुद्धता को सख्ती से नियंत्रित करने के अलावा, घनत्व, अनाज का आकार और सामग्री का क्रिस्टल अभिविन्यास, गर्मी उपचार की स्थिति और बाद की प्रसंस्करण विधियों को भी कड़ाई से नियंत्रित करने की आवश्यकता है. नियंत्रण.

1. पाउडर धातुकर्म
पाउडर धातु विज्ञान द्वारा लक्ष्य तैयार करते समय, कुंजी में निहित है: (1) कच्चे माल के रूप में उच्च शुद्धता और अति सूक्ष्म पाउडर का चयन करना; (2) एक बनाने और सिंटरिंग तकनीक का चयन करना जो लक्ष्य के कम छिद्र को सुनिश्चित करने और अनाज के आकार को नियंत्रित करने के लिए तेजी से घनत्व प्राप्त कर सके; (3) तैयारी प्रक्रिया सख्ती से अशुद्धता तत्वों की शुरूआत को नियंत्रित करती है.

2. पिघलने कास्टिंग विधि
स्पटरिंग लक्ष्य बनाने के लिए मेल्टिंग कास्टिंग विधि बुनियादी तरीकों में से एक है। यह सुनिश्चित करने के लिए कि पिंड में अशुद्धता तत्वों की सामग्री यथासंभव कम हो, इसकी गलाने और ढलाई आमतौर पर निर्वात या सुरक्षात्मक वातावरण में की जाती है। हालांकि, कास्टिंग प्रक्रिया के दौरान, यह अपरिहार्य है कि भौतिक संरचना के अंदर एक निश्चित सरंध्रता है. ये छिद्र स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान कणों को छपने का कारण बनेंगे, जिससे स्पटर वाली फिल्म की गुणवत्ता प्रभावित होती है..इस कारण से, इसके सरंध्रता को कम करने के लिए अनुवर्ती थर्मल प्रसंस्करण और गर्मी उपचार प्रक्रियाओं की आवश्यकता होती है.

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