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स्पटरिंग टारगेट मीडियम फ़्रीक्वेंसी मैग्नेट्रोन स्पटरिंग के ज्ञान की व्याख्या करें

2021年10月10日

मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग में कई प्रकार शामिल हैं। प्रत्येक के अलग-अलग कार्य सिद्धांत और अनुप्रयोग ऑब्जेक्ट हैं। लेकिन एक बात समान है: चुंबकीय क्षेत्र और इलेक्ट्रॉनों के बीच परस्पर क्रिया इलेक्ट्रॉनों को लक्ष्य सतह के चारों ओर सर्पिल बनाती है, जिससे आयनों के उत्पादन के लिए आर्गन गैस से टकराने वाले इलेक्ट्रॉनों की संभावना बढ़ जाती है। उत्पन्न आयन स्पटरिंग लक्ष्य को स्पटर करने के लिए विद्युत क्षेत्र की क्रिया के तहत लक्ष्य सतह से टकराते हैं। हाल के दशकों के विकास में, सभी ने धीरे-धीरे स्थायी चुम्बकों को अपनाया है, और शायद ही कभी कॉइल मैग्नेट का इस्तेमाल किया जाता है।.

मध्यवर्ती आवृत्ति स्पटरिंग का सिद्धांत सामान्य डीसी स्पटरिंग के समान है. अंतर यह है कि डीसी स्पटरिंग बैरल को एनोड के रूप में उपयोग करता है, जबकि मध्यवर्ती आवृत्ति स्पटरिंग युग्मित है. चाहे बैरल भाग लेता है, समग्र डिजाइन द्वारा निर्धारित किया जाना चाहिए, और पूरी प्रणाली स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान, एनोड और कैथोड की व्यवस्था संबंधित है. अनुपात चक्र में भाग लेने के कई तरीके हैं. अलग-अलग तरीके अलग-अलग स्पटरिंग यील्ड और अलग-अलग आयन घनत्व प्राप्त कर सकते हैं।.

मध्यवर्ती आवृत्ति स्पटरिंग की मुख्य तकनीक बिजली आपूर्ति के डिजाइन और अनुप्रयोग में निहित है. वर्तमान में, अधिक परिपक्व आउटपुट विधियां साइन वेव और पल्स स्क्वायर वेव हैं. प्रत्येक के अपने फायदे और नुकसान है. प्रथम, फिल्म परत के प्रकार पर विचार करें और विश्लेषण करें कि कौन सी बिजली उत्पादन विधि किसके लिए उपयुक्त है. फिल्म परत, वांछित फिल्म प्रभाव प्राप्त करने के लिए आप बिजली आपूर्ति विशेषताओं का उपयोग कर सकते हैं.

लक्ष्य का उपयोग मध्यवर्ती आवृत्ति लक्ष्यों के लिए किया जाता है, और कुछ स्पटरिंग लक्ष्य तीन जोड़े का उपयोग करते हैं। लक्ष्य अपेक्षाकृत बड़े हैं. जहां तक ​​मध्यवर्ती आवृत्ति का संबंध है, अधिकांश वर्कपीस कुछ धातु के साथ चढ़ाया जाता है। ऐसी वैक्यूम भट्टियां आम तौर पर अपेक्षाकृत बड़ी होती हैं, जो बहुत सारे कार्य भागों को निर्धारित कर सकता है, और मढ़वाया फिल्म अधिक घनी है।.

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