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डिक्रिप्ट, वैक्यूम इलेक्ट्रोप्लेटिंग में लक्ष्य सामग्री का अनुप्रयोग

2021年10月19日

समय के विकास के साथ, सुरक्षित होने की आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए, अधिक ऊर्जा की बचत, शोर कम करना, और प्रदूषक उत्सर्जन को कम करना, सतह के उपचार की प्रक्रिया में, पर्यावरण संरक्षण में वैक्यूम चढ़ाना एक नया चलन बन गया है..सामान्य इलेक्ट्रोप्लेटिंग के विपरीत, वैक्यूम इलेक्ट्रोप्लेटिंग अधिक पर्यावरण के अनुकूल है. एक ही समय पर, वैक्यूम इलेक्ट्रोप्लेटिंग अच्छे चमक के साथ एक काला प्रभाव पैदा कर सकता है जिसे साधारण इलेक्ट्रोप्लेटिंग द्वारा प्राप्त नहीं किया जा सकता है।.

वैक्यूम इलेक्ट्रोप्लेटिंग मूल रूप से एक भौतिक जमाव घटना है, जिसमें आर्गन गैस को वैक्यूम के तहत इंजेक्ट किया जाता है, और आर्गन गैस लक्ष्य सामग्री से टकराती है, और लक्ष्य सामग्री के अलग किए गए अणुओं को एक समान और चिकनी सतह परत बनाने के लिए प्रवाहकीय सामानों द्वारा सोख लिया जाता है। इस इलेक्ट्रोप्लेटिंग प्रक्रिया में, लक्ष्य सामग्री बहुत महत्वपूर्ण है, तो वैक्यूम इलेक्ट्रोप्लेटिंग प्रक्रिया में लक्ष्य सामग्री के अनुप्रयोग क्या हैं??आज, संपादक आपको विस्तृत परिचय देगा.

सामान्य परिस्थितियों में, वैक्यूम इलेक्ट्रोप्लेटिंग में लक्ष्य सामग्री के अनुप्रयोग में निम्नलिखित विशेषताएं हैं::

(1) धातुओं, मिश्र धातु या इन्सुलेटर को पतली फिल्म सामग्री में बनाया जा सकता है.

(2) उपयुक्त सेटिंग शर्तों के तहत, एक ही रचना की एक पतली फिल्म कई और जटिल लक्ष्यों से बनाई जा सकती है.

(3) निर्वहन वातावरण में ऑक्सीजन या अन्य सक्रिय गैसों को जोड़कर, लक्ष्य सामग्री और गैस अणुओं का मिश्रण या यौगिक बनाया जा सकता है.

(4) लक्ष्य इनपुट वर्तमान और स्पटरिंग समय नियंत्रित किया जा सकता है, और उच्च परिशुद्धता फिल्म मोटाई प्राप्त करना आसान है.

(5) अन्य प्रक्रियाओं की तुलना में, यह बड़े क्षेत्र की समान फिल्मों के निर्माण के लिए अधिक अनुकूल है.

(6) स्पटरिंग कण गुरुत्वाकर्षण से लगभग प्रभावित नहीं होते हैं, और लक्ष्य और सब्सट्रेट की स्थिति को स्वतंत्र रूप से व्यवस्थित किया जा सकता है.

(7) सब्सट्रेट और फिल्म के बीच आसंजन शक्ति से अधिक है 10 सामान्य वाष्प जमाव फिल्म का समय, और क्योंकि थूक वाले कणों में उच्च ऊर्जा होती है, वे एक कठोर और घनी फिल्म प्राप्त करने के लिए फिल्म बनाने की सतह पर फैलते रहेंगे. एक ही समय पर, उच्च ऊर्जा सब्सट्रेट को केवल कम तापमान पर क्रिस्टलाइज्ड फिल्म प्राप्त करने की आवश्यकता बनाती है.

(8) फिल्म निर्माण के प्रारंभिक चरण में उच्च न्यूक्लिएशन घनत्व, जो 10nm . से नीचे अल्ट्रा-पतली निरंतर फिल्म का उत्पादन कर सकता है.

(9) लक्ष्य सामग्री का लंबा जीवन होता है और इसे लंबे समय तक स्वचालित रूप से और लगातार उत्पादित किया जा सकता है.

(10) लक्ष्य सामग्री को विभिन्न आकृतियों में बनाया जा सकता है, बेहतर नियंत्रण और दक्षता के लिए मशीन के विशेष डिजाइन के साथ.

उपरोक्त सभी के लिए संपादक का सारांश है. वैक्यूम इलेक्ट्रोप्लेटिंग में लक्ष्य सामग्री के अनुप्रयोग की कुछ विशेषताएं. एक नई प्रौद्योगिकी उत्पाद के रूप में, सतही उपचार प्रौद्योगिकी में लक्ष्य सामग्री की उपस्थिति एक प्रमुख प्रगति है।.

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