חדשות תעשייתיות

1) עקרון התזה של מגנטרון. בעמוד המטרה המקרטע (קָטוֹדָה) והאנודה בין הוספת שדה מגנטי אורתוגונלי וחשמלי, בתא ואקום גבוה מלא בגז האינרטי הנדרש (בדרך כלל אר גז), מגנטים קבועים במשטח חומר המטרה ליצירת שדה מגנטי של 250 ~ 350 גאוס, with the high voltage electric field …

כַּיוֹם,ישאנשים עם ראשים בכל מקום,וטלפונים ניידים עשויים להיות הכי חשובים עבור הציבור,ומובילפונים מופיעים בהופעות בקרוב ועוד ועוד ברמה גבוהה,עיצוב מסך מלא,עיצוב קטן,א

פיתוח של טוהר גבוה אלומיניום מרסס יעד תעשייה. עם טיפול לפיתוחהאלקטרוניקה החדשה,הדרישה למוצרים חומרים אלקטרוניים(כוללטה

עם הפיתוח שלפעמים,לא קשור לדרישות העניין,חוסך יותר אנרגיה,הפחתת רעש,והפחתת פליטות זיהום,אצל מטפלים

בהשוואה עם צורות אחרות של מגנטית שידור מטרות,גלילי ותכשירי מגנטרונים פוטורי מטרות לשמור על היתרונות של ציפוי טוב אחידות עבור שטחים מלבניים,א

מוצרים אלקטרוניים משמשים בסיבובי חיים,ורוב המוצרים האלקטרוניים שצריך לטפל בהם לפני שהם יושבים על השוק. בימינו,השימוש הנפוץ בציפוי ואקום ציוד מגנטי

מקרטע יעדים מבקרים לקבוע פקודות אבטחה,ציפוי רב ארקטי או סוגים של ציוד ציודכדי להתאים

היעד חומר בעל תכונות רבות,ופיתוח השווקיםמרחב,ithasverygoodusesinmanyfields.Almostallnew

Magnetronsputteringincludesmanytypes.Eachhasdifferentworkingprinciplesandapplicationobjects.Butthereisonethingincommon:theinteractionbetweenthemagneticfieldandtheelectricfieldmak

Metaltargetreferstothetargetmaterialusedinhigh-speedenergeticparticlebombardment.Andbychangingdifferenttargetmaterials(suchasaluminum,נְחוֹשֶׁת,stainlesssteel,טִיטָן,nickeltargets,וכו '),youcan

לאחרונה,חברים רביםשאלו לגבי תהליך העיבוד של מטרות אלומיניום בטוהר גבוה..מומחים מנוסים על כך שיטות העיבוד של יעדים של אבץ-אלומיניום

מטרה של טונגיסטיטניום מיוצרתכובעאבקתמתכתתהליךתרגיל.הגולגולת- טיטניום חומרי קרביד