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L'influence de la pulvérisation cathodique cible la pureté et l'uniformité du matériau sur la production de revêtements de grande surface

2021年10月10日

L'éditeur du revêtement du matériau cible a déjà été mentionné, dans le processus de pulvérisation, la qualité du matériau cible est supérieure à celle de l'industrie des matériaux traditionnels..Dans cet article, l'éditeur continuera à introduire l'impact de la pureté et de l'uniformité du matériau cible sur le revêtement de grande surface. Venez en apprendre ~

La pureté du matériau cible de la pulvérisation a un impact plus important sur les performances du film à revêtir. Lorsque le verre propre pénètre dans la chambre de revêtement sous vide poussé, si la pureté du matériau cible n'est pas suffisante, les particules d'impuretés dans le matériau cible adhéreront à la surface du verre pendant le processus de pulvérisation sous l'action du champ électrique et du champ magnétique. Le phénomène de séparation apparaît fermement. Par conséquent, plus la pureté de la cible est élevée, meilleure est la performance du film déposé.

Pour les cibles à faible conductivité thermique, telles que les cibles SiA1, la présence d'impuretés dans la cible provoque souvent un blocage du transfert de chaleur, ou la différence entre la température de l'eau de refroidissement utilisée dans la production et la température réelle de l'eau de la ligne de revêtement, etc., provoque la fissuration de la cible pendant l'utilisation. Des fissures mineures n'auront pas un grand impact sur la production de revêtements.Cependant, lorsqu'il y a des fissures évidentes dans le matériau cible, la charge est très facile à concentrer sur le bord de la partie fissure, ce qui provoquera une décharge anormale sur la surface cible. Le phénomène de décharge provoquera une chute de laitier, formation anormale de film, et une augmentation des rebuts de produits., en train de préparer la cible, en plus de contrôler la pureté, les conditions du processus de préparation doivent également être contrôlées.

Pour cibles en alliage, une répartition inégale des matériaux se produit souvent, comme l'agglomération d'aluminium dans la cible SiAl, ségrégation de l'aluminium dans la cible zinc-aluminium (la masse atomique de l'aluminium est 27 moins que la masse atomique du zinc 65, et l'aluminium est refroidi pendant le processus de refroidissement après avoir coulé. Va flotter, provoquant une teneur élevée en aluminium d'un côté et faible d'un côté).En raison du point de fusion bas, l'Al aggloméré dans la cible SiA1 est sujet aux crasses pendant le processus de formation du film de pulvérisation cathodique, et la quantité d'A1 ajoutée pendant le processus de pulvérisation est certaine. Lorsqu'une partie de l'agglomération se produit, cela indique que la teneur en aluminium dans d'autres endroits est moins, qui affecte la cible SiA1. La conductivité thermique et la conductivité électrique du film, résultant en un taux de pulvérisation incohérent, mauvaise uniformité du film, fissuration du matériau cible, aggravant le phénomène de décharge cible, et également réduire la qualité de la formation du film. La ségrégation des composants cibles affectera le taux de pulvérisation (uniformité du film) et la composition du film. Par conséquent, en plus de contrôler la pureté du matériau cible, la répartition du matériau dans la cible d'alliage est également très importante.

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