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Comment préparer la cible de pulvérisation

202119 octobre

La cible de pulvérisation fait référence à une source de pulvérisation qui est pulvérisée et déposée sur un substrat par pulvérisation magnétron, placage ionique multi-arc ou d'autres types d'équipements de revêtement dans des conditions de processus appropriées pour former divers films minces fonctionnels. Les cibles de pulvérisation cathodique sont largement utilisées dans de nombreux domaines tels que la décoration, outillage, un verre, appareils électroniques, semi-conducteurs, enregistrement magnétique, écran plat, cellules solaires, etc. Les matériaux cibles requis dans différents domaines sont différents.

Préparation de la cible de pulvérisation

La préparation des matériaux cibles de pulvérisation cathodique peut être divisée en deux catégories: coulée en fusion et métallurgie des poudres selon le procédé. En plus de contrôler strictement la pureté, densité, taille des grains et orientation cristalline du matériau, les conditions de traitement thermique et les méthodes de traitement ultérieures doivent également être strictement contrôlées. contrôler.

1. Métallurgie des poudres
Lors de la préparation de cibles par métallurgie des poudres, la clé réside dans: (1) sélection de poudres de haute pureté et ultra-fines comme matières premières; (2) sélection d'une technologie de formage et de frittage pouvant atteindre une densification rapide pour assurer une faible porosité de la cible et contrôler la taille des grains; (3) Le processus de préparation contrôle strictement l'introduction d'éléments d'impuretés.

2. Méthode de coulée par fusion
La méthode de coulée par fusion est l'une des méthodes de base pour la fabrication de cibles de pulvérisation. Afin de garantir que la teneur en éléments d'impuretés dans le lingot est aussi faible que possible, sa fusion et sa coulée sont généralement effectuées sous vide ou sous atmosphère protectrice., pendant le processus de coulée, il est inévitable qu'il y ait une certaine porosité à l'intérieur de la structure du matériau. Ces pores feront éclabousser les particules pendant le processus de pulvérisation cathodique, affectant ainsi la qualité du film pulvérisé..Pour cette raison, des procédés de traitement thermique et de traitement thermique de suivi sont nécessaires pour réduire sa porosité.

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