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Comment la densité relative et la porosité du matériau cible affectent-elles la qualité du revêtement??

2021年10月10日

La densité relative de la cible est le rapport de la densité réelle de la cible à la densité théorique. La densité théorique de la cible monocomposant est la densité cristalline. La densité théorique de l'alliage ou du mélange cible est déterminée par la densité théorique de chaque composant et sa composition dans l'alliage ou le mélange. Calculé en pourcentage. La structure de la cible de projection thermique est lâche et poreuse, et la teneur en oxygène est élevée (même s'il s'agit de pulvérisation sous vide, il est difficile d'éviter la production d'oxydes et de nitrures dans l'alliage cible), la surface est grise, manque d'éclat métallique, et les impuretés adsorbées et l'humidité sont les principaux facteurs. La source de pollution entrave l'acquisition rapide du vide poussé, conduit facilement à des décharges pendant le processus de pulvérisation, et brûle même le matériau cible.

En même temps, la température élevée instantanée de la surface de pulvérisation de la cible provoquera facilement la chute des particules libres, contaminer la surface du verre, et affecter la qualité du revêtement. Il existe des réglementations claires pour la libération ponctuelle de la surface de verre revêtue. Plus la densité relative est élevée, plus la vitesse de formation du film est rapide et plus le processus de pulvérisation est stable..Selon la différence dans le processus de préparation du matériau cible, la densité relative de la cible de coulée par fusion doit être garantie d'être supérieure à 98%, et la cible de métallurgie des poudres doit être garantie d'être au-dessus 97% pour une utilisation en production..Par conséquent, il est nécessaire de contrôler strictement la densité du matériau cible pour réduire l'apparition de gouttes de laitier. Le matériau cible de pulvérisation a une faible densité et un faible coût de préparation. Lorsque la densité relative peut garantir plus de 90%, cela n'affecte généralement pas l'utilisation. Maintenant, les cibles SiA1 utilisées en Chine sont toutes des cibles de pulvérisation..

En plus de la densification, si le matériau cible est anormal pendant le processus de production, comme de grosses particules qui tombent ou des trous qui rétrécissent lorsqu'ils sont chauffés, plus de pores (défauts internes) sera formé, et l'intérieur du matériau cible apparaîtra plus grand (cible de fusion>2mm, cible de pulvérisation> 0.5mm) ou des trous plus denses se déchargeront en raison de la concentration des charges, ce qui affectera l'utilisation. Les cibles à faible densité et pores sont sujettes à l'écaillage lors du traitement ultérieur, manipulation ou installation. Le matériau cible avec une densité relative élevée et peu de pores a une bonne conductivité thermique, et la chaleur à la surface du matériau cible de pulvérisation cathodique est facilement et rapidement transférée à la surface interne du matériau cible ou à l'eau de refroidissement dans le revêtement, et la dissipation de chaleur est bonne, assurant ainsi la stabilité du processus de formation du film.

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