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Expliquer les connaissances sur la pulvérisation cathodique cible magnétron moyenne fréquence

2021年10月10日

La pulvérisation cathodique magnétron comprend de nombreux types. Chacun a des principes de fonctionnement et des objets d'application différents. Mais il y a une chose en commun: l'interaction entre le champ magnétique et les électrons fait tourner les électrons autour de la surface cible, augmentant ainsi la probabilité que des électrons frappent le gaz argon pour produire des ions. Les ions générés entrent en collision avec la surface cible sous l'action du champ électrique pour pulvériser la cible de pulvérisation. Au cours des dernières décennies de développement, tout le monde a progressivement adopté les aimants permanents, et des aimants à bobine rarement utilisés..

Le principe de la pulvérisation cathodique à fréquence intermédiaire est le même que celui de la pulvérisation cathodique CC générale. La différence est que la pulvérisation cathodique utilise le canon comme anode, tandis que la pulvérisation à fréquence intermédiaire est appariée. La participation du canon doit être déterminée par la conception globale, et l'ensemble du système Pendant le processus de pulvérisation, la disposition de l'anode et de la cathode est liée. Il existe de nombreuses façons de participer au cycle des ratios. Différentes méthodes peuvent obtenir différents rendements de pulvérisation et différentes densités d'ions..

La technologie principale de la pulvérisation cathodique à fréquence intermédiaire réside dans la conception et l'application de l'alimentation. Maintenant, les méthodes de sortie les plus matures sont l'onde sinusoïdale et l'onde carrée d'impulsion. Chacun a ses avantages et désavantages. Première, considérer le type de couche de film et analyser quelle méthode de sortie de puissance convient à quel. Couche de film, vous pouvez utiliser les caractéristiques de l'alimentation pour obtenir l'effet de film souhaité.

La cible est utilisée pour les cibles de fréquence intermédiaire, et certaines cibles de pulvérisation utilisent trois paires. Les cibles sont relativement grandes. En ce qui concerne la fréquence intermédiaire, la plupart des pièces sont plaquées avec du métal. Ces fours à vide sont généralement relativement grands, qui peut imposer de nombreuses tâches, et le film plaqué est plus dense..

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