Avantages des cibles de pulvérisation magnétron cylindriques et planes

Par rapport à d'autres formes de cibles de pulvérisation magnétron, les cibles de pulvérisation magnétron cylindriques et planes conservent les avantages d'une bonne uniformité de revêtement pour les cibles plates rectangulaires, et peut maximiser le matériel cible des deux manières suivantes Taux d'utilisation:

(1) Lorsque les deux groupes (quatre) des fosses annulaires sur la surface cible atteignent une certaine profondeur, le noyau cible (partie magnétique) peut être tourné de 45° par rapport au tube cible, afin que les autres zones du tube cible qui n'ont pas été corrodées puissent être

(2) Lorsque le noyau cible de la cible de pulvérisation magnétron cylindrique et planaire est conçu comme un noyau cible rotatif, (le noyau cible tourne pendant la pulvérisation cathodique), la surface du matériau cible peut être pulvérisée uniformément couche par couche, et il n'y aura pas de fosses. En ce moment, le matériel cible sera utilisé le plus efficacement possible, et le taux d'utilisation du matériau cible peut atteindre 50% à 60%. Lorsque le matériau cible est un matériau en métal précieux, c'est sans aucun doute d'une grande importance..

En adoptant le principe de l'aimant et du sabot dans la cible de pulvérisation magnétron cylindrique coaxiale pour résoudre le problème du champ magnétique final, la cible plane rectangulaire peut être transformée en une cible cylindrique, cible de pulvérisation magnétron planaire, qui retient le revêtement de la cible plane rectangulaire Dans le cas d'une bonne uniformité, le taux d'utilisation du matériau cible peut être maximisé, améliorant ainsi les avantages économiques.