Hutseko sputtering helburuen informazioa aurkeztea

Hutsean xurgatutako materialen aurkezpena, denek xede-industriaren ezagutza hobeto ulertzen laguntzeko.

Helburuko adierazle teknikoak: Garbitasuna: 3-4 N Osagai nagusiak: ZnO: Al2O3 = 97:3 [Al2O3 dopin erlazioa (0-4) % pisua erabiltzaileen eskakizunen arabera egokitu daiteke] Dentsitate erlatiboa: d≥ 98% Dentsitate teorikoa: ρ = 5,6 g?cm-3 Benetako dentsitatea: ρ≥ 5.5 g?cm-3 Trinkotasun uniformea: ez da orban zuririk edo partikula handirik ikusi zeharkako ataletik 2. Estalduraren errendimendua: xaflen erresistentzia: filmaren lodiera gutxi gorabehera 900 nm, erresistentzia karratua ≤ 10Ω / □ erresistibitatea: ρ≤ 9 × 10-4 Ω?cm Argiaren transmisio ikusgaia: T≥ 80% 3.Sputtering potentzia dentsitatea: Gaur egun, etxeko estaldura ekipoen indar aplikagarria da 3-4 w?cm -2, eta gehienezko potentzia irits daiteke 10 w?cm -2 ekipamendu hozte sistema onaren baldintzapean 4. Tamaina handiena (mm) ekoitz daiteke: Moldeen zehaztapen handiena: L × W = 334 × 272, dagoen L × W × H = 330 × 135 × 12, 160× 135 × 12, 160× 135 × 9 hiru zehaztapen, lodiera Bezeroaren eskaeraren ekoizpenean oinarritu daiteke.