Kalitate handiko hutsean estaltzeko materialak (4N

1.Oxidoa: silizio monoxidoaren helburua, SiO helburua, silizio dioxidoaren helburua, SiO2 helburua, titanio dioxidoaren helburua, TiO2 helburua, zirkonio dioxidoaren helburua, ZrO2 helburua, hafnio dioxidoaren helburua, HfO2 helburua , Titanio monoxidoaren helburua, TiO helburua, titanio pentoxidoaren helburua, Ti3O5 helburua, niobio pentoxidoaren helburua, Nb2O5 helburua, tantalo pentoxidoa, Ta2O5 helburua, itrio oxidoaren helburua, Y2O3 helburu Puritate handiko oxido estaldura materialak.

2.Fluoruroa: neodimio fluoruroaren helburua, NbF3 helburua, bario fluoruroaren helburua, BaF2 helburua, zerio fluoruroaren helburua, CeF3 helburua, magnesio fluoruroaren helburua, MgF2 helburua, lantano fluoruroaren helburua, LaF3 Helburuak, itrio fluoruroaren helburuak, YF3 helburuak, itterbio fluoruroaren helburuak, YbF3 helburuak, erbio fluoruroaren helburuak, ErF3 helburuak eta purutasun handiko beste fluoruro batzuk.

3.Beste konposatu batzuk: zink sulfuroa helburu, ZnS helburua, zink selenuroaren helburua, ZnSe helburua, titanio nitruroaren helburua, TiN helburua, silizio karburoaren xede, SiC helburua, lantano titanatoaren helburua, LaTiO3 helburua , Bario titanatoaren helburua, BaTiO3 helburua, estronzio titanatoaren helburua, SrTiO3 helburua, praseodimio titanatoaren helburua, PrTiO3 helburua, kadmio sulfuroa helburu, CdS target eta hutsean estaltzeko beste material batzuk.

4. Metal estaldura materialak: purutasun handiko aluminiozko diana, Al target, purutasun handiko kobrea helburu, Helburua, purutasun handiko titaniozko helburua, Ti helburua, purutasun handiko silizio helburua, Si helburua, purutasun handiko urrezko helburua, Au helburu Materiala, purutasun handiko zilarrezko helburua, Ag helburua, purutasun handiko indio helburua, Helburuan, purutasun handiko magnesioaren helburua, Mg helburua, purutasun handiko zink helburu, Zn helburua, purutasun handiko platinozko helburua, Pt helburua, purutasun handiko Germanium helburua, Ge helburu, purutasun handiko nikelaren helburua, Ni helburu, purutasun handiko urrezko helburua, Au target, urre-germanio aleazioaren helburua, AuGe helburua, urre-nikel aleazioaren helburua, AuNi helburua, nikel-kromo aleazioaren helburua, NiCr helburua, titaniozko aluminio aleazioaren helburua, TiAl helburua, kobrea indio galio aleazio helburu, CuInGa helburua, kobrea indio galio selenuro aleazioaren helburua, CuInGaSe helburua, zink aluminio aleazioaren helburua, ZnAl helburua, aluminio silizio aleazio Helburu materiala, AlSi helburu materiala eta beste estaldura metaliko batzuk.