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Cómo preparar el objetivo de pulverización catódica

2021年10月19日

El objetivo de pulverización se refiere a una fuente de pulverización catódica que se deposita sobre un sustrato mediante pulverización catódica con magnetrón., Recubrimiento de iones de arco múltiple u otros tipos de equipos de recubrimiento en condiciones de proceso adecuadas para formar varias películas delgadas funcionales. Los objetivos de pulverización se utilizan ampliamente en muchos campos, como la decoración., estampación, vidrio, dispositivos electrónicos, semiconductores, grabación magnética, pantalla plana, células solares, etc. Los materiales de destino requeridos en diferentes campos son diferentes.

Preparación del blanco de pulverización catódica

La preparación de materiales objetivo de pulverización catódica se puede dividir en dos categorías: fundición y pulvimetalurgia según el proceso. Además de controlar estrictamente la pureza, densidad, tamaño de grano y orientación cristalina del material, Las condiciones del tratamiento térmico y los métodos de procesamiento posteriores también deben controlarse estrictamente.. control.

1. Metalurgia de polvos
Al preparar objetivos mediante pulvimetalurgia, la clave está en: (1) Selección de polvos ultrafinos y de alta pureza como materias primas.; (2) seleccionar una tecnología de formación y sinterización que pueda lograr una densificación rápida para garantizar una baja porosidad del objetivo y controlar el tamaño del grano; (3) El proceso de preparación controla estrictamente la introducción de elementos de impurezas..

2. Método de fundición de fundición
El método de fundición es uno de los métodos básicos para hacer blancos de pulverización catódica, con el fin de garantizar que el contenido de impurezas en el lingote sea lo más bajo posible., su fundición y colada se realiza habitualmente al vacío o en atmósfera protectora., durante el proceso de casting, es inevitable que exista una cierta porosidad dentro de la estructura del material. Estos poros harán que las partículas salpiquen durante el proceso de pulverización catódica., afectando así la calidad de la película pulverizada. Por esta razón, Se requieren procesos de tratamiento térmico de seguimiento y procesos de tratamiento térmico para reducir su porosidad..

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