nombre del producto:Tantalum target material
Calificación: Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.
Varilla de tantalio de alta pureza en stock de suministro directo de fábrica a bajo precio:GB/3629-2006
Pureza:≥99,95%
Condición: recocido (METRO) o duro (Y)
Tamaño:
Diámetro externo (mm) | Grosor (mm) | Rugosidad de la superficie | Llanura |
50~ 400 | 3~ 50 | 32RMS | ≤0,15% |
Nota: Los productos especiales deben negociarse entre la oferta y la demanda.. |
Requisitos de ingredientes:
Marca | Contenido elemental (fracción de masa %) | |||||||||||
C | norte | O | H | Fe | Y | Ni | Tú | Mes | W | Nótese bien | Ejército de reserva | |
Ta1 | 0.01 | 0.005 | 0.015 | 0.0015 | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 0.002 | 0.01 | 0.01 | 0.05 | Derechos residuales de autor |
Ta2 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.005 | 0.03 | 0.04 | 0.1 | Derechos residuales de autor |
TaNb3 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.005 | 0.03 | 0.04 | 1.5~ 3,5 | Derechos residuales de autor |
TaNb20 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.005 | 0.02 | 0.04 | 17~ 23 | Derechos residuales de autor |
TaNb40 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 0.05 | 35~ 42 | Derechos residuales de autor |
TaW2.5 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 2.0~ 3,5 | 0.5 | Derechos residuales de autor |
TaW7.5 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 6.5~ 8.5 | 0.5 | Derechos residuales de autor |
TaW10 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 9.0~ 11 | 0.1 | Derechos residuales de autor |
Solicitud: El blanco de pulverización catódica de tantalio es una hoja de tantalio obtenida mediante procesamiento a presión., con alta pureza química, tamaño de grano pequeño, buena organización de la recristalización y consistencia en los tres ejes.
Se utiliza principalmente en el revestimiento de deposición de pulverización catódica de fibra óptica., oblea semiconductora y circuito integrado, El objetivo de tantalio se puede utilizar para el recubrimiento de pulverización catódica., material activo de succión de alto vacío, etc.
Es un material importante para la tecnología de película fina.. Munición perforadora de armaduras: La munición perforante de tantalio es una especie de misil, como el misil TOW2B. Ta-10W y otras aleaciones también se pueden convertir en municiones perforantes.