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Ventajas de los objetivos de pulverización catódica de magnetrón cilíndricos y planos

2021年10月19日

En comparación con otras formas de objetivos de pulverización catódica de magnetrón, Los objetivos de pulverización catódica de magnetrón cilíndricos y planos conservan las ventajas de una buena uniformidad de recubrimiento para objetivos planos rectangulares, y puede maximizar el material de destino a través de las siguientes dos formas Tasa de utilización:

(1) Cuando los dos grupos (cuatro) de los hoyos en forma de anillo en la superficie del objetivo alcanzan una cierta profundidad, el núcleo objetivo (parte del imán) se puede girar 45 ° con respecto al tubo de destino, para que las otras áreas del tubo de destino que no se hayan corroído se puedan utilizar

(2) Cuando el núcleo del objetivo del objetivo de pulverización catódica de magnetrón cilíndrico y plano está diseñado como un núcleo de objetivo giratorio, (el núcleo objetivo está girando durante la pulverización catódica), la superficie del material objetivo se puede pulverizar uniformemente capa por capa, y no habrá hoyos. En este momento, el material de destino se utilizará de forma más eficaz, y la tasa de utilización del material objetivo puede alcanzar 50% para 60%. Cuando el material objetivo es un material de metal precioso, esto es, sin duda, de gran importancia..

Al adoptar el principio de imán y zapata en el objetivo de pulverización catódica de magnetrón cilíndrico coaxial para resolver el problema del campo magnético final, el objetivo plano rectangular se puede convertir en un cilíndrico, objetivo de pulverización catódica magnetrón plano, que retiene el recubrimiento del objetivo plano rectangular en el caso de buena uniformidad, la tasa de utilización del material objetivo se puede maximizar, mejorando así los beneficios económicos.

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