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    • Tantal-Ziel

    KATEGORIE UND TAGS:
    Tantal ,

    Produktname：Tantal-Targetmaterial
    Grad: Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.
    Standard：GB/3629-2006
    Reinheit:≥99,95 %
    Zustand: geglüht (m) oder hart (Ja)

    Anfrage
    • Produktbeschreibung

    Größe：

    Außendurchmesser (mm) Dicke (mm) Oberflächenrauheit Ebenheit
    50~400 3~50 32Effektivwert ≤0,15%
    Notiz: Spezielle Produkte müssen zwischen Angebot und Nachfrage ausgehandelt werden.

    Zutatenanforderungen：

    Marke Elementarer Inhalt (Massenanteil %)
    C n Ö h Fe Und Ni Sie Mo W Nb Ta
    Ta1 0.01 0.005 0.015 0.0015 0.005 0.005 0.002 0.002 0.01 0.01 0.05 Rückstände
    Ta2 0.02 0.025 0.03 0.005 0.03 0.02 0.005 0.005 0.03 0.04 0.1 Rückstände
    TaNb3 0.02 0.025 0.03 0.005 0.03 0.03 0.005 0.005 0.03 0.04 1.5~3.5 Rückstände
    TaNb20 0.02 0.025 0.03 0.005 0.03 0.03 0.005 0.005 0.02 0.04 17~23 Rückstände
    TaNb40 0.01 0.01 0.02 0.0015 0.01 0.005 0.01 0.01 0.02 0.05 35~42 Rückstände
    TaW2.5 0.01 0.01 0.015 0.0015 0.01 0.005 0.01 0.01 0.02 2.0~3.5 0.5 Rückstände
    TaW7.5 0.01 0.01 0.015 0.0015 0.01 0.005 0.01 0.01 0.02 6.5~8,5 0.5 Rückstände
    TaW10 0.01 0.01 0.015 0.0015 0.01 0.005 0.01 0.01 0.02 9.0~11 0.1 Rückstände

    Anwendung: Tantal-Sputter-Target ist eine Tantalplatte, die durch Druckverarbeitung gewonnen wird, mit hoher chemischer Reinheit, kleine Körnung, gute Rekristallisationsorganisation und Konsistenz in den drei Achsen.

    Wird hauptsächlich bei der Sputter-Abscheidungsbeschichtung von Lichtwellenleitern verwendet, Halbleiterwafer und integrierte Schaltung, Tantal-Target kann für Kathodenzerstäubungsbeschichtung verwendet werden, Hochvakuum-Saugaktives Material, etc.

    Es ist ein wichtiges Material für die Dünnschichttechnologie. Panzerbrechende Munition: Aus Tantal hergestellte panzerbrechende Munition ist eine Art Rakete, wie TOW2B-Raketen. Ta-10W und andere Legierungen können auch zu panzerbrechender Munition verarbeitet werden.

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