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Analyse des Problems der Vergiftung und Schwärzung der Targethälfte nach dem Sputtern

202131. August

 

Frage: Die reaktive Magnetron-Sputter-Technologie scheidet einen Zirkoniumnitridfilm ab, das Ziel ist zwei Zoll, das Sputtergas ist Argon, das reaktive Gas ist N2, die Leistung beträgt 300W, die Radiofrequenz-Stromversorgung, die Absetzung dauert zwei Stunden, und das Ziel wird nach der Fertigstellung herausgenommen. Schauen Sie sich das im Titel beschriebene Phänomen an, ob es sich um eine Zielvergiftung oder andere Gründe handelt, aber warum nur die Hälfte davon erscheint?

Ursachenanalyse 1: Es kann mit der Einführung von Hochfrequenzenergie zusammenhängen

Ursachenanalyse 2: So ein kleines Ziel, zwei Inch?Ist die Kühlung gleichmäßig?

Ursachenanalyse 3: 300W Leistung wird zu einem so kleinen Ziel hinzugefügt, kann die Kühlung mithaltenEs besteht der Verdacht, dass die Kühlung nicht gut ist, verursacht die Hälfte des Schwarzen!

Ursachenanalyse 4: unzureichende Kühlung.Ist die Temperatur zu hoch?

Ursachenanalyse 5: Es kann mit der hohen Leistung zusammenhängen. Ich wage es nur, die Kraft des Ziels mit einem Durchmesser von zu erhöhen 60 bis ca. 100W.

Ursachenanalyse 6: Ist die Stromversorgung in zwei Stunden stabilEs kann sein, dass die Energie zu hoch ist, oder es kann sein, dass die Seite des Ziels eine geerdete Komponente berührt

Ursachenanalyse 7: Es besteht der Verdacht, dass ein Problem mit der Luftdichtheit vorliegt, persönlich denken

Lösung 1: Anregung 1) Überprüfen Sie die Gasgleichmäßigkeit; 2) Ob auf einer Seite Luftlecks vorhanden sind?

Lösung 2: Es wird empfohlen, eine XPS-Analyse durchzuführen, oder mach das Experiment nochmal.

Zusammenfassung: Basierend auf der obigen Analyse, Die Hauptgründe, die dazu führen, dass das Ziel vergiftet und schwarz wird, sind zu hohe Temperaturen, instabile Stromversorgung, Gasgleichmäßigkeit und Luftdichtheit. Überprüfen Sie diese möglichen Hauptursachen, und beheben Sie sie Schritt für Schritt.

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