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Vorteile von zylindrischen und planaren Magnetron-Sputtertargets

2021年10月19日

Im Vergleich zu anderen Formen von Magnetron-Sputter-Targets, zylindrische und planare Magnetron-Sputtertargets behalten die Vorteile einer guten Beschichtungsgleichmäßigkeit für rechteckige flache Targets, und kann das Zielmaterial durch die folgenden zwei Möglichkeiten maximieren:

(1) Wenn die beiden Gruppen (vier) der ringförmigen Pits auf der Zieloberfläche erreichen eine bestimmte Tiefe, der Zielkern (Magnetteil) um 45° zum Zielrohr drehbar, damit die anderen nicht korrodierten Bereiche am Zielrohr ausgenutzt werden können

(2) Wenn der Targetkern des zylindrischen und planaren Magnetron-Sputtertargets als rotierender Targetkern ausgelegt ist, (der Targetkern dreht sich beim Sputtern), die Oberfläche des Targetmaterials kann Schicht für Schicht gleichmäßig gesputtert werden, und es wird keine Gruben geben. Zu diesem Zeitpunkt, das Zielmaterial wird am effektivsten genutzt, und der Nutzungsgrad des Zielmaterials erreichen kann 50% zu 60%. Wenn das Zielmaterial ein Edelmetallmaterial ist, dies ist zweifellos von großer Bedeutung..

Durch die Übernahme des Prinzips von Magnet und Schuh im koaxialen zylindrischen Magnetron-Sputter-Target, um das Problem des Endmagnetfelds zu lösen, das rechteckige planare Ziel kann zu einem zylindrischen entwickelt werden, Planares Magnetron-Sputtertarget, die die Beschichtung des rechteckigen planaren Targets beibehält Bei guter Gleichmäßigkeit, der Nutzungsgrad des Zielmaterials kann maximiert werden, dadurch Verbesserung des wirtschaftlichen Nutzens.

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