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Über thermisches Spritzen rotierende Sputtertargets

2021年10月10日

Die Mikrostruktur des rotierenden Targets des thermischen Spritzens besteht aus runden, kuchenartigen, flachen, feinen Körnern, und die Kornorientierung ist parallel zur Richtung der Rotationsachse. Es gibt eine große Anzahl von Poren im Mikrometerbereich in der Organisation, und die Gesamtporosität beträgt 5-20%. Anzahl und Form der Poren hängen stark vom Beschichtungsmaterial ab, Sprühtechnik und Gasflussrate verwendet. Die Poren stehen in direktem Zusammenhang mit der Umgebungsfeuchtigkeit bei der Vorbereitung und Lagerung des Targets, und die Adsorption und Desorption von Sauerstoff.Daher, Das thermische Spritztarget muss eine isolierte Vorpumpe verwenden, um das adsorbierte Gas auf der Oberfläche vor dem Sputtern zu entfernen..

Beim thermischen Spritzen können Beschichtungsmaterialien von Stäben verwendet werden, Drähte und Pulverpartikel, die vor dem Schmelzen nicht verdunstet, daher ist die Target-Technologie des thermischen Spritzens für verschiedene Materialien wie Metalle geeignet, Legierungen und Keramiken..Die Schmelzguss-Targettechnologie ist auf Metall- oder Legierungsmaterialien beschränkt, deren Schmelzpunkt der Gießausrüstung entspricht. Spröde Keramiken sind nicht zum Gießen geeignet. Wenn der Schmelzpunkt zu hoch ist, spezielle Gießausrüstung ist erforderlich..Und einige Keramikmaterialien sublimieren oder zersetzen sich, bevor sie den Schmelzpunkt erreichen.

Das rotierende Ziel des thermischen Spritzens besteht darin, das Beschichtungsmaterial direkt auf den Liner zu spritzen, ohne zusätzlichen Klebeprozess. Dies entspricht dem direkten Gießen von Metallen mit niedrigem Schmelzpunkt (Schmelzpunkt unter 450°C) und integraler Streifenguss. Jedoch, etwas “weich” Metalle mit höheren Schmelzpunkten, wie Ag, muss separat verklebt werden.

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