Titanium target applications:
High purity titanium up to 5N in its purest form, mainly used in CVD, verdampingsmateriaal, preparation of sputtering targets, magnetiese opname, optoelectronic devices, magnetic sensors and integrated circuits and other materials.
Electronic coating, CVD coating, alloy additive, single crystal high temperature alloy, high entropy alloy additive, aerospace for semiconductor, sputtende teiken, offshore oil, ens.
Titanium target specifications and packaging:
Algemene spesifikasies Diameter van titaniumdraad met 'n hoë suiwerheid: 3mm, 6mm, 10mm of volgens die vereistes van die kliënt Hoë suiwerheids titaniumstaaf 20*20mm, of volgens die vereistes van die kliënt. Diameter van hoë suiwerheid van titanium: 150mm, of soos benodig.
1、Ons kan verskillende deeltjiegroottes verwerk en aanpas volgens die vereistes van die kliënt.
2、Verpakking: houtboks, of volgens die vereiste van die kliënt.